Proteus

減少溫室氣體的新基準

愛德華 Proteus

Proteus 是一種低功耗、容易使用且具有成本效益的解決方案,可減少半導體製造的碳足跡。

  • 低功耗、高效電漿技術
  • 電漿功率調製
  • 氮氧化物排放少
  • 長 MTBS
  • 藉由  Proteus Dual 保障正常運行時間

  1. 獨特的低功耗電漿技術可實現 PFC 氣體 (例如 CF4) 和其他導致全球變暖的氣體 (例如 SF6、NF3 和 N2O) 的高破壞率 (DRE)。這使 Proteus 成為減少半導體製程中導致全球變暖之氣體的最具成本效益的解決方案之一。
  2. Proteus Plasma 的運行功率可以根據進氣負載完全可調,從而使使用者能夠最大程度地降低功耗並保持最佳的處理效率。透過與製程工具和自動電漿功率調製配合,為降低運行成本同時保持最高的環境績效提供了更多機會。
  3. 減少 PFC 氣體需要高溫以促進 NOx 氣體的形成。Proteus 電漿技術的開發旨在最大程度地減少「熱力型氮氧化物」的排放,現已成為領先的「低氮氧化物」PFC 減排系統之一。
  4. PFC 分子的破壞往往會透過產生有毒和腐蝕性的水溶性化合物來增加酸負荷。Proteus 電漿炬和濕式洗滌台經過專門設計,可最大程度地減少組件腐蝕。Proteus 結合出色的粉末處理能力,能夠實現較長的平均停機間隔時間,同時在製造廠保持安全的工作環境。
  5. Proteus Dual 提供完全整合的「備份」解決方案,以幫助確保減排,而無需複雜的管道和接合。Proteus Dual 是一種經濟高效、易於安裝的解決方案。它有助於維持過程的正常運行時間,減少占地面積和安裝成本,同時提高半導體無塵室的安全性。

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