用以實現乾淨可靠分析環境的真空系統
初級泵浦能排氣至大氣，將壓力維持在低至中真空度；它們可以使用機油，也可以是「乾的」。
能夠達到高與超高真空度的二級泵浦需要有初級泵浦輔助。使用的真空泵浦類型取決於分析應用的特定需求。
我們所有的真空泵浦及控制器都是以分析儀器領域主要 OEM 作為目標使用群開發製造而成。
在某些情況下，若是現成的泵浦並不符合您流程中的空間或效能需求，那麼我們的「訂製產品開發」(BPD) 團隊可為您研製客製化的真空解決方案。這會是與您共同設計、專用於您的應用的產品。
適用於質譜分析的真空系統
質譜分析儀 (MS) 應用一套用於測量樣本中原子和分子質量和相對量的科學技術。基本上，它可以被視為化學分析儀。首先，樣本需要「離子化」，這可根據樣本類型以各種不同技術進行。接著，需根據離子的質量充電比，以最合適的方法將離子分離。最後，儀器會進行偵測，並將訊號進行處理以產出質譜分析結果。
質譜分析在化學、生物學、環境科學、藥理學和醫學等領域皆有使用，應用範圍廣泛。它可用於識別未知的化合物、量化樣品中的特定化合物含量，並協助判定複雜分子的結構。
質譜分析測量的準確性和精準度取決於不同的真空度。真空泵浦可移除可能干擾測量程序的殘留氣體分子，確保質譜儀可在所需真空條件下運作。
質譜分析常用的真空泵浦技術包括：
旋轉葉片泵浦 (RV 和 E2M)
油封式旋轉葉片泵浦 (RVP) 由固定在轉子中的一組滑動葉片組成，轉子在圓柱形定子外殼內偏心旋轉。當油潤滑式葉片與轉子一起旋轉時，離心力會將葉片壓入定子外殼的壁上。進入泵浦的氣體會受葉片限制，並壓縮為較小體積，送至泵浦出口，然後排放至大氣中。一段式與兩段式 RVP 可分別提供不同的最終壓力。
多段魯式泵浦 (MSR) (nXRi 和 nXLi)
就根本而言，MSR 是乾式魯式泵浦，由兩個反向旋轉的互連「葉片」轉子，在廓形相符的定子外殼內旋轉。氣體經由垂直於轉子的進氣口法蘭進入乾式泵浦，然後被「隔離」進 (各以相反方向) 快速旋轉的轉子之間，經過壓縮，再送往下一個階段。轉子的幾何形狀會產生壓縮效果，因此每個階段都會漸進產生較高的壓力。MSR 泵浦在共用軸上一般會配置七個轉子階段，前一段的排氣階段連接至下一段的進氣階段，依此類推。最後，壓縮的氣體會在最終的排氣階段排出至大氣。
渦捲泵浦
乾式渦捲泵浦具有兩個互相嚙合的螺旋形渦捲幾何，裝在一個真空外殼裡。其中一個渦捲是固定的，而另一個渦捲則在前一個渦捲內偏心移動，但不旋轉。氣體進入螺旋 (外部) 開口端，隨著螺旋環繞，渦捲間會隔離出一定量的氣體，並在兩個螺旋之間「擠壓和運送」。此隔離的氣體「區塊」會向裝置中央移動，而其體積會在過程中持續壓縮減小，直到達到殼體中央，並於此透過止回閥排出並恢復至大氣壓力。
渦輪分子泵浦 (TMP)
這些泵浦的運作方式是使用極高速的旋轉渦輪葉片 (1,000 Hz 等級)，將氣體分子從儀器真空腔體中移除，然後送進泵浦的進氣口。這種泵浦廣泛使用的原因在於，它們可以針對儀器流程需求，建立介於 10-2 至 10-10 mbar 之間的各種真空度。
客製化設計的解決方案
OEM 經常有特殊需求，而愛德華訂製產品開發 (BPD) 團隊能夠與客戶合作，製造出符合客戶特定需求的真空解決方案。
用於電子顯微鏡的真空系統
使用電子顯微鏡的科學家能辨識出地球上最小的物質，他們需要安靜、無震動且可靠的真空泵浦。
電子顯微鏡 (EM) 藉由在內部產生一系列不同的真空度，來達到所需的效能。舉例來說，「來源」的電子槍需要在 UHV 環境中運作，以避免電子源受損。這也能讓電子束從電子源移動並穿過電子腔，然後抵達樣本，不被殘餘氣體分子散射或吸收。電子束接著會與樣本互動，產生訊號，而這些訊號被偵測後則用於產生影像。
若要產生高解析度影像，在顯微鏡室內必須維持在穩定且高品質的真空狀態，在部分情況中甚至必須滿足 UHV 條件，因此需要使用真空泵浦。
電子顯微鏡中使用多種真空泵浦技術；其中最常見的是：
視真空泵浦在顯微鏡中的部署位置而定，泵浦震動幅度需盡可能降至最低，以避免影像受到干擾。在部分 EM 配置 (環境掃描 EM) 中，泵浦必須能夠持續抽取約 10 mbar 環境內的水蒸氣。
我們的 Gamma Vacuum 系列可提供離子、鈦昇華和非蒸散型吸附泵浦，能用以輔助我們的機械泵浦。這讓我們的產品陣容更加完備，提供從大氣環境乃至超高真空的工作壓力，為您帶來最全面的真空解決方案。
離子吸附泵浦 (IGP)
視存在的氣體量與類型而定，IGP 可產生介於 10-6 乃至 10-12 mbar 之間的真空。在電子顯微鏡中，它們一般使用於電子腔，因為它們沒有活動的機械零件，可以產生無震動的 UHV 環境。
必須先降至高真空度才能開啟。這通常是透過渦輪分子泵浦搭配前級泵浦 (隔膜泵浦、渦捲泵浦或旋轉葉片泵浦) 來進行。
達到所需的真空度 (通常是 10-6 mbar 或以下) 之後，便可開啟 IGP。
IGP 真空泵浦有三種基本類型可供選用：
這三種泵浦類型都是由一個真空腔體 (腔體大小根據泵浦的速度而各不相同)、一個 ConFlat 法蘭和一個高電壓饋通所組成。它們在外部都有一對鐵氧體磁板與軛鐵連接，可產生 0.12 T 的磁場。
傳統二極管 (CV) 泵浦
CV 泵浦最適合用於需要抽吸活性氣體 (例如氧氣、氫氣、碳氫化合物、氮氣和水蒸氣等) 的應用。它的內部包含一對以接地電位保存的鈦陰極板，用以「夾住」是一系列電氣絕緣的不銹鋼陽極管。泵浦藉由在陽極管施加高電壓 (通常為 7kV)，釋放出自由電子。這些電子會以螺旋動作 (受磁場影響所致) 行進，最終可能會碰撞氣體分子，撞掉一個電子以產生一個帶正電的離子。然後，該離子會被帶正電的陽極管排斥，並被吸引到接地的陰極板上，以高速衝擊表面，與鈦陰極板發生化學反應。泵浦也會啟動鈦濺射機制，形成主動吸附式的鈦金屬抽吸層。
差分離子 (DI) 或貴金屬二極管泵浦
DI 吸附泵浦具有優異的惰性氣體抽吸能力，但也會因此損失一些活性氣體抽吸的能力。鈦板替換為鉭板。氣體分子再次受電子衝擊而離子化，但是當它們加速並撞擊鉭陽極板時，會被反射為高能量中性粒子，然後結合到表面上，最後被濺射的鉭吸附。
三極管泵浦
三極管真空泵浦結構稍有不同。在這裡，真空管接地，陰極板替換為帶負高電壓電位的陽極鈦片。離子以一般的方式產生，然後加速衝向這些鈦片，造成衝擊，並釋放為高能量中性粒子，最終嵌至真空腔體壁，並由濺射鈦吸附。鈦片的邊緣相當鋒利，並且處於高負電位，很容易產生「晶鬚」，晶鬚會定期地「閃絡」，長期下來可能導致電力不穩定。
適用於手套箱的真空系統
手套箱是密閉的工作空間，可用以在完全隔離的狀態下處理材料，不受氧氣或濕氣影響。為達此隔離效果，真空泵浦會將環境中的殘留空氣從手套箱中排出，然後以惰性氣體 (例如氮或氬) 進行迫淨，接著加以密封。真空泵浦建立的低壓環境可防止外部空氣進入手套箱。
手套箱可以使用多種不同類型的真空泵浦，包括隔膜泵浦、旋轉葉片泵浦和渦捲泵浦。泵浦的選擇取決於應用的特定需求，例如氣流速率、真空度和維護需求。
適用於 X 光繞射 (XRD) 的真空系統
XRD 是一種透過觀察材料與 X 光互動的方式來分析材料結構的技術。當 X 光照射在樣本上時，X 光會以可分析的特定模式繞射，可供判定樣本的晶體結構。
XRD 中利用真空去除大氣分子，因為大氣分子會散射和吸收 X 光，導致訊雜比降低與資料不準確。藉由去除空氣分子並產生真空，可確保 X 光與樣本互動時不受干擾，帶來更好的資料品質。
在 XRD 中也會使用真空來減少樣本污染。樣本暴露於空氣中時，可能會受到灰塵、水蒸氣和其他空氣微粒汙染，進而干擾繞射模式。真空可保護樣本不受這些污染物影響，使分析結果更精確。
XRD 儀器透過真空泵浦，在內部創造真空環境，以移除樣本腔體中的空氣分子。視儀器的特定需求和分析的樣本而定，可由旋轉葉片泵浦、隔膜泵浦和渦輪分子泵浦等多種不同類型的真空泵浦進行選用。
