비교불가한 가스처리 성능
Edwards의 Atlas™는 뛰어난 신뢰성, 탁월한 파우더 처리 성능 및 부식 저항성을 제공하며 반도체, 평면 패널 디스플레이, 태양광 및 MOCVD 산업 분야에 가스처리 기능을 제공합니다.
Atlas 가스처리 기술: 공정에 맞는 다양한 연소 가스 저감 솔루션:
- 공통 CVD 가스용 Atlas TCS (NF3/F2)
- CVD 공정의 PFC 가스용 Atlas TPU (ClF3, C2F6, C3F8)
- 차세대 공정의 low-k CVD 가스를 위한 Atlas Kronis
- 반도체 식각 및 평면 패널 디스플레이 공정용 Atlas Etch (CF4, SF6 및 고유량 PFC)
- 에피택시 및 MOCVD의 수소 공정 안전 처리용 Atlas Helios
Atlas™ 시스템은 이전 세대 가스 저감 장치에 비해 연료 소비가 적습니다. 당사는 입증된 Alzeta™의 내화성 연소 기술을 사용하여 소유 비용을 크게 절감했습니다. 온도 관리 시스템(TMS)을 포함한 여러 옵션이 있는 1~6개의 흡입구를 통해 Atlas 시스템은 최대 1,200slm의 유동 용량을 처리할 수 있습니다. 이 시스템은 사용하기 쉽고 보다 효율적인 정비가 가능하도록 설계되었습니다.
Edwards의 내화성 연소 기술
대부분의 주요 반도체 제조업체에서 사용하는 내화성 연소실은 1994년 이래로 가스 저감의 세계적인 표준이 되었습니다.
Edwards의 독자적인 연소 기술은 균일한 연소 온도에서 작동합니다. 이를 통해 백그라운드 배기가스 배출이 매우 적고, 내부의 가스 흐름으로 인해 공정 물질이 챔버 벽과 접촉하지 않도록 하여 고형물에 의한 막힘을 최소화합니다. 이 연소실 소재는 부식 방지 성능을 제공하며 Atlas에 최고의 신뢰성과 안전성을 제공합니다.
Edwards의 최첨단 환경 혁신 센터에서는 탁월한 성능, 현장에서 검증된 솔루션 및 타사 검증을 위한 공정 조정 솔루션을 제공합니다. 가스처리 DRE는 일반적으로 글로벌 및 현지 법률을 넘어 확장됩니다.
TLV 미만의 SiH4 및 기타 할로겐화물
NF3 : >99% /
F2 : : >99% /
CF4 : >90%
기타 PFC : >99%
광범위한 설치 기반과 탁월한 글로벌 응용 분야 팀 및 서비스 지원을 통해 Edwards는 고객의 공정 요구에 맞게 설계된 최고의 솔루션을 제공할 수 있습니다. Edwards의 전문가와 함께 최고의 해결책을 찾을 수 있습니다.
