Beszéljünk a kamramegoldásokról

Minden jó diáknak tisztában kell lennie a gáz alapvető törvényeivel, hogy a gáz nyomása és hőmérséklete közvetlenül összefügg.

A vákuumberendezések beszállítójaként az Edwardsnak nemcsak a vákuumnyomás, hanem a hőmérséklet-szabályozás területén is szakértőnek kell lennie. Egy félvezető kamrában, ahol a mi feladatunk a szubatmoszférikus nyomás, a hőmérséklet szabályozása, az egyik legbefolyásosabb szabályozógomb.

A félipari feldolgozók hőmérséklet-tartománya mindkét végén rendkívül magas hőmérsékletekre terjed ki a kamra turbószivattyúi által feldolgozott gázok esetében, de rendkívül alacsony hőmérsékletekre is a lapka és a tokmány esetében.

Egy példa a magas hőmérsékleti követelményekre: a helyszíni lerakódás és az új anyagok kombinációja azt jelenti, hogy a teljes vákuumrendszerben kezelnünk kell a lerakódást. Napjainkban a turbószivattyúzási forráson áthaladó teljes gázútvonalat 150 fok fölött kell tartanunk. Az alacsony hőmérsékletek növelik a maratóprocesszorok irányítottságát és szelektívségét, így ma a lapkahőmérsékleteknek mínusz 87 fok alatt kell lenniük.  

Ha azonban figyelembe vesszük a gyakorlati hőátadási korlátozásokat és egyes reakciók exoterm jellegét, akkor valóban szükségünk van arra, hogy a lapka hőmérséklete mínusz 110 fok vagy akár mínusz 120 fok alatt legyen.

Az Edwards új részlegének neve Semiconductor Chamber Solutions (Félvezetőkamra-megoldások). Ez a részleg turbó- és kriotechnológiákból áll, hogy bővítse az Edwards folyamatkompetenciáját mind nyomás, mind hőmérséklet tekintetében. A turbómag technológiai csapata a hőszigetelésre és az optimalizálásra összpontosít. Valójában új dinamikus rotorhőmérséklet-érzékelőt fejlesztettek ki, és új anyagokat is vizsgálnak, amelyek akár 200 és potenciálisan 300 fok hőmérsékletet is elérhetnek a turbószivattyúkon.

Eközben a kriotechnikai csapatunk kevert Joule Thomson hűtőközeg ciklusokon dolgozik, amelyek valóban biztosíthatják azt az energiát, amelyre szükség lesz ahhoz, hogy elérjék ezeket a mínusz 120 fokú lapkahőmérsékleteket.

Az Edwards turbó és kriotechnológiái együttműködhetnek. Ismert, hogy a vízgőz jelenléte növelheti a részecskék képződését egyes folyamatokban, például a PVD szelektív szilíciuméleknél. A szubmilliátor tartományban azonban a vízgőz a kamra környezetének elsődleges alkotóeleme. A vízgőzt nehezebb szivattyúzni, mint a legtöbb gázt. A legtöbb gázmolekula hajlamos egymástól, a kamrafalaktól és a turbó bemeneti lapátjaitól ugrálni, ami segít átvezetni őket a turbón és a kamrából. Azonban a vízgőzmolekula alacsony energiaszintje azt jelenti, hogy hajlamos a vízgőz eltávolítására, mivel a turbószivattyúk nem a leghatékonyabb módszert jelentik, mivel a vízgőz hajlamos rátapadni az ütköző felületekre, és nem ugrálni.

Azonban a kriogén szivattyú egyszerűen nem praktikus, mint az egykamrás szivattyú, mert ha az összes molekulát felfogja, akkor azt jelenti, hogy gyakori regenerálásra lenne szüksége, ami elfogadhatatlan szivattyúzási hatékonyságot jelentene.

De a turbó és a vízszivattyú kombinációjával integrált megoldást kínálunk. Ez valóban csökkentheti a vízgőz parciális nyomását, csökkentheti az alapnyomást, aminek csökkentenie kell a részecskék számát. Ez javíthatja a hibákat, és növelheti a hozamot, ami a chipgyártás szent grálja.