在真空系統中基於許多因素會使用到真空計，包括：判斷壓力 (UHV 壓力是否夠低，足以將實驗最佳化？)、作為系統的「互鎖」或「開關」(何時可啟動副泵浦)，以及「控制」生產製程。
真空計再現性、準確性、穩定性、解析度、線性度、回應時間、動態範圍、耐用度，以及成本等，都是選擇時的重要考量因素。
真空計一般採總計 - 總壓力是每種氣體之分壓總和：道爾頓定律。
或
部分，可測量個別氣體種類的 (分) 壓力。
此外，絕對真空計分「主要」儀錶，可用自己的物理特性校正，或「次要」儀錶，此種無法執行此操作，需要校正器。
真空計還可再細分為兩個原理組：也就是直接測量壓力 (藉由氣體分子撞擊產生力)，以及間接測量壓力，即測量隨壓力改變的氣體特性。間接式真空計必須針對特定氣體進行校正 (或調整其讀數)，因此其讀數會「依氣體類型而定」。市面上販售的直接真空計實際的下限為 10-4 mbar，因此在這以下的壓力時就必須使用間接真空計。
直接真空計又更進一步分為會以液體或彈性/機械元件表示測得壓力與參考間的差異。
間接真空計通常會用氮氣校準。例如，如果氮氣的敏感度為 SN2，且顯示 (測量) 壓力 = PN2，則如果氣體已知，真氣壓 (= Pgas) 即為：
Sgas = 氣體的相對敏感度。
當 SN2 = 1，則只要
當有多種氣體時，情況就會變得複雜。第一種情況下，必須知道氣體的成分百分比。接著，從一系列構成氣體的第一原理開始，其中 ri = Pi/PN2 為第 i 個氣體的相對成分，而第 i 個氣體的相對敏感度為 si = Pindicated(N2)/Ptrue，則「真」(或實際) 壓力與顯示壓力間的關係為：
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