最大化半導體附屬廠房的可利用性
在當今瞬息萬變、互聯互通的世界中，我們深知需要最大限度地提高客戶的生產力。為此，我們確保他們的技術率先進入市場，同時繼續努力降低製程可能帶來的風險和環境挑戰。
我們認為，客戶的最佳解決方案是一種綜合方法，該解決方案將基於我們的全球經驗來考慮客戶的整體真空和排氣管理需求。我們的綜合解決方案是我們創新的核心，使我們能夠為客戶提供穩定產品和服務的優勢，從而提高生產力、安全性和環境保證。
極紫外光刻 (簡稱為 EUVL 或 EUV) 的創新工藝是下一代光刻技術，領先的半導體芯片製造商計劃將其用於製造最先進的半導體元件。這項技術具有歷史意義，因為它使摩爾定律得以持續擴展。EUV 面臨的直接挑戰是保證工具的正常運行時間。我們完全整合的半導體無塵室解決方案將為 EUV 光刻製造帶來重大利益。從半導體無塵室角度來看，實現 EUV 已有 10 多年的歷史，我們創新的領先技術解決方案和系統化能力將繼續努力，以在可管理的安全環境中實現最大的 EUV 工藝正常運行時間和效率。
我們完全瞭解面臨的挑戰
利用我們的全球經驗確保客戶的成功
更高流量並不意味著更大的工具
回收/再用
適應客戶需求的能力和經驗。雙重流量並不意味著經驗豐富的系統產品公司、客戶團隊、服務支援和全球專業知識的規模就會增加一倍
EZENITH 提供先進的系統產品組合，可為您的所有半導體製程應用提供完全整合的真空和排氣管理解決方案。EZENITH 系統具有以下獨特之處：
若僅使用泵浦和氣體減排裝置，您仍未為執行製程做好準備。您將需要連接泵浦排氣口，在需要時連接您的管式加熱器，運行水管、淨化管和電力管，然後準備好所有控制訊號。您還必須考慮雙重外殼、氣體洩漏偵測以及在工具維護後如何檢漏。所有這些事情將消耗您的設計時間和金錢。我們了解問題所在，因此我們開發了針對特定製程的綜合解決方案。
我們的整合式系統已經針對大多數半導體製程進行了預先設計。排氣加熱器設定為正確的溫度，以最大程度地降低成本並延長正常運行時間。我們將洩漏檢查口和閘閥放在需要的地方。整個系統是封閉的，最重要的是，您只需要提供一個必需設備。我們在需要的地方分配氣體、水、電和控制訊號，並建立一個隨時可用的系統。
極紫外光刻 (簡稱為 EUVL 或 EUV) 的創新工藝是下一代光刻技術，領先的半導體芯片製造商計劃將其用於製造最先進的半導體元件。這項技術具有歷史意義，因為它使摩爾定律得以持續擴展。EUV 面臨的直接挑戰是保證工具的正常運行時間。我們完全整合的半導體無塵室解決方案將為 EUV 光刻製造帶來重大利益。從半導體無塵室角度來看，實現 EUV 已有 10 多年的歷史，我們創新的領先技術解決方案和系統化能力將繼續努力，以在可管理的安全環境中實現最大的 EUV 工藝正常運行時間和效率。
我們完全瞭解面臨的挑戰
利用我們的全球經驗確保客戶的成功
更高流量並不意味著更大的工具
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若僅使用泵浦和氣體減排裝置，您仍未為執行製程做好準備。您將需要連接泵浦排氣口，在需要時連接您的管式加熱器，運行水管、淨化管和電力管，然後準備好所有控制訊號。您還必須考慮雙重外殼、氣體洩漏偵測以及在工具維護後如何檢漏。所有這些事情將消耗您的設計時間和金錢。我們了解問題所在，因此我們開發了針對特定製程的綜合解決方案。
我們的整合式系統已經針對大多數半導體製程進行了預先設計。排氣加熱器設定為正確的溫度，以最大程度地降低成本並延長正常運行時間。我們將洩漏檢查口和閘閥放在需要的地方。整個系統是封閉的，最重要的是，您只需要提供一個必需設備。我們在需要的地方分配氣體、水、電和控制訊號，並建立一個隨時可用的系統。
