整合解決方案

極致紫外線光刻的創新製程 (稱為 EUVL 或 EUV) 是新一代的光刻技術，主要半導體晶片製造商計畫用於製造最先進的半導體元件。這項技術具有歷史上的重要性，因為它使摩爾定律得以持續擴展。EUV 面臨的直接挑戰是保證工具的正常運行時間。我們完全整合的半導體無塵室解決方案將為 EUV 曝光製程帶來重大利益。從半導體無塵室角度來看，實現 EUV 已有 10 多年的歷史，我們創新的領先技術解決方案和系統化能力將繼續努力精進，以在受管理的安全環境中實現最大的 EUV 正常運行時間和效率。

我們完全瞭解面臨的挑戰

• 風險管理

利用我們的全球經驗確保客戶的成功

• 節約能源

更高流量並不意味著更大的工具

回收/再利用

• 大幅度增加

適應客戶需求的能力和經驗。雙重流量並不意味著經驗豐富的系統產品公司、客戶團隊、服務支援和全球專業知識的規模就會增加一倍

EZENITH 提供先進的系統產品組合，可為您的所有半導體製程應用提供完全整合的真空和排氣管理解決方案。EZENITH 系統具有以下獨特之處：

• 以製程為中心的真空和排氣管理
• 元件完全整合
• 強大的整合控制介面支援每種功能
• 專為有效利用空間而設計 - 節省多達 70％
• 對服務進行全面的內部分配、監管和監控，可將廠務配管減少 60％ 以上，同時確保運行平穩可靠

若僅使用泵浦和氣體減排裝置，您仍未為執行製程做好準備。您將需要連接泵浦排氣口，在需要時連接您的管式加熱器，運行水管、淨化管和電力管，然後準備好所有控制訊號。您還必須考慮雙重外殼、氣體洩漏偵測以及在工具維護後如何檢漏。所有這些事情將花費您的設計時間和金錢。我們了解問題所在，因此我們開發了針對特定製程的整合解決方案。

我們的整合式系統已針對大多數半導體製程進行了預先設計。排氣加熱器設定為正確的溫度，以最大程度地降低成本並延長正常運行時間。我們將洩漏檢查口和閘閥放在需要的地方。整個系統是封閉的，最重要的是，您只需提供一個必要設備。我們在需要的地方分配氣體、水、電和控制訊號，並建立一個隨時可用的系統。 

Regis (反應氣體注入系統) 是一種化學反應系統，使用遠端電漿技術來延長泵浦的使用壽命。

最新一代 Regis 採用獨特的反應室設計，可確保製程氣體在進入泵浦前能有效率地反應，將泵浦的使用壽命延長至超過 300 天。

相較於前一代 Regis，其佔地面積已減少 26.5 %。新的 Regis 系統搭配嚴苛型系列的乾式真空泵浦，可在一系列製程中提供最長的泵浦運行時間與製程穩定性。

特性和優點：

• 以低廉的成本即可擁有：

ReGIS 將泵浦壽命延長至 300 天或更長

最佳化 NF3 流量，使用 FTIR 研究將 CoO 減到最小。

反應效率因新的反應室設計而提升 100%。

• 最大化工具運行時間：

線上連續操作。

縮短因頻繁更換泵浦而造成的設備停機時間。

• 具有機櫃抽取口的完全密閉系統。

• PLC 控制：

工具訊號控制 ReGIS 電漿點火功能。

增強的安全性。

完整的系統監控。

• 達成製程穩定性：

無損效能。

傳導不變。