大量生産においてEUVが直面する課題は何でしょうか?
世界の半導体需要はこれまでになく高まっており、エドワーズのお客様は、生産量を最大化して需要を満たすとともに、持続可能な投資から十分な利益を得ることを重視しています。
エドワーズは、EUVの稼動時間とスループットを最大化する必要性を理解しており、20年以上にわたる真空・除害データの蓄積と性能の解析により、お客様が生産性と持続可能性の目標を達成できるよう支援しています。
エドワーズは、最先端の生産施設とグローバルなサービスインフラを活用して総合的なEUVソリューションを提供する一方、お客様だけでなくすべての利害関係者に対しても環境面と社会的な価値を提供しています。
デヴィッド・エンガランは、EUV HVMの課題とエドワーズの解決方法について考察しています。
ウェハは多数のプロセスツールを通過するため、半導体の製造には数ヵ月を要します。
ファブにおいて最も高度かつ戦略的なツールであり、潜在的なボトルネックでもあるのがリソグラフィツールです。最先端の半導体製造ともなれば、EUV（Extreme Ultra-Violet Lithography）が必要です。EUVリソグラフィを使用することで、半導体が登場した当初から製造技術の進歩を定義するものとされてきたフィーチャーサイズやデバイスサイズを継続的に縮小させることができます。
システム全体のスループットは基本的に固定されているため、投資利益率を確保するには、システムの可用性を最大化し、操業コストを最小化し、製造プロセスの環境への影響を低減しなければなりません。
ビデオおよびトランスクリプト
デヴィッド・エンガランは、EUV HVMの課題とエドワーズの解決方法について考察しています。
プロセスの課題
ツールの可用性を最大化する際の重要な側面の1つとして、真空と除害の観点からプロセスの課題を理解する必要があります。短波長EUVの照射により、フィーチャーサイズを小さくできますが、リソグラフィシステムの複雑性が大きく増加します。EUV光はあらゆる物質に強く吸収されるため、高精度の反射光学部品を使用し、ビーム経路全体の真空封じ込めを行う必要があります。
これらの重要な光学部品に汚染物質が付着しないようにするため、EUVプロセスでは水素を使用し、プロセス材料と反応させてプロセスツールから汚染物質を除去し、真空システムに移動させています。高流量の水素を安全かつ効果的に管理するために、真空システムと除害システムが必要になります。
エドワーズの解決方法
ファブの人員、地域社会、環境の安全性を確保しつつ、効率性を高め、操業コストを削減する方法を行うには、高度なイノベーションが必要です。
EUVプロセスでは、空気中で強い可燃性を示す水素を大量に使用することから、安全性と環境を特に重視する必要があります。エドワーズのEUVシステムは、EUVプロセス向けに専用設計され、反応済み化合物を捕捉するトラップを内蔵した真空ポンプを採用しています。システム全体に安全センサーが装備されているため、システム内に可燃性混合物が存在しないことを確認できます。従来は、燃料燃焼式除害システムを使用して、真空ポンプ下流側の水素を燃焼させてきましたが、この方法は大量のエネルギーと資源を必要とし、継続的な保守が必要でした。
当社の新しい非燃料型アプローチでは、燃料燃焼式除害を使用せず、水素濃度を燃焼範囲を大幅に下回る水準まで安全に希釈します。これにより、安全性を常に確保しながら、必要なエネルギー量を大幅に削減できます。
幸い、水素自体は環境に悪影響を与えません。濃度が最低燃焼レベルを下回ればかなり安全です。非燃料型の水素管理では、燃焼レベル、希釈技術、産業安全基準を理解する必要があります。重要な作業は水素を空気で希釈することですが、これは直感に頼れない方法です。しかし、混合物が可燃性であるクリティカルパスを極めて短縮し、注意深く監視することで、ガスはファブ内を安全に移動して大気中に直接放出される不燃性の濃度まで迅速に希釈されます。
水素管理を非燃料化することにより、管理燃焼用の燃料コストと炭素排出量、さらに希釈用窒素の高額なコストが削減されます。エドワーズは、最先端の生産施設とグローバルなサービスインフラを活用して総合的なEUVソリューションを提供する一方、お客様だけでなくすべての利害関係者に対しても環境面と社会的な価値を提供しています。&
エドワーズは、最先端の生産施設とグローバルなサービスインフラを活用して総合的なEUVソリューションを提供する一方、お客様だけでなくすべての利害関係者に対しても環境面と社会的な価値を提供しています。
デヴィッド・エンガラン
グローバルプロダクトマネジャー
エドワーズ統合システム部