2019年1月23日
真空與廢氣處理的創新方法有利於促進更複雜的晶片科技，亦可使晶片製造廠更有生產力。
愛德華將在韓國國際半導體設備展 (SEMICON® Korea) 中展示創新解決方案，這項新方案有助於晶片製造商在現今的多元需求市場中維持競爭力。微縮技術不斷增加採用更複雜設計的需求，因此許多不同的半導體製程都會使用廣泛的科技方法和材料，這些製程皆需仰賴全新的真空和廢氣處理方法才能完成。
愛德華今年慶祝百年創新科技， 將在韓國國際半導體設備展舉辦兩場演講，展示創新、生產力、安全的新方法：
˗ 「CVD 前驅物與相關副產品 - 確保腔體的最大生產力”」，由愛德華資深產品經理 Al Brightman 先生 發表。此場演講將呈現最佳的真空解決方案，採用的設計可降低設備停機時間，提升晶片製造廠的生產力， 亦會大幅降低健康與安全的風險 (1 月 23 日星期三，308 室)。 ˗ 「利用反應室內製程真空促進 3D 和高縱橫比蝕刻科技 」，由愛德華應用經理 Adam Stover 發表。此場演講不僅會討論傳統泵浦的挑戰與已經證實的解決方法，也會討論創新應用的挑戰，可能會限制更複雜的 3D NAND、PRAM 或其他設備結構 (1 月 24 日星期四，307 室)。
愛德華將在攤位 #D104 上展示知名 iXH 乾式真空泵浦的新代機型，這款機型專為處理凝結氣體而設計， 為嚴苛的製程提供更高的耐温能力。愛德華韓國分公司總經理 Jason Yun 說：「現今廢氣管理製程的安全和有效管理越來越受到重視，全世界的排放限制的進展也越加嚴格。同時，進階技術導入具挑戰的新材料和新製程，這些都需要最佳的真空和廢氣處理解決方案。舉例來說，我們新一代的 iXH 泵浦採用特殊設計，可預防泵浦內堆積凝結的物質。」 Jason 補充說：「今年是愛德華歡慶第 100 週年，我們期盼繼續與客戶緊密合作，打造可供客戶創新的解決方案。」如欲進一步瞭解次潔淨區域解決方案和加值服務，請於韓國國際半導體設備展期間到訪愛德華攤位 #D104。韓國國際半導體設備展的舉辦時間為 1 月 23 - 25 日，地點在韓國首爾 COEX。