이 게이지는 최대 0.15%의 정확도로서 산업 용광로에서 반도체 제조에 이르기까지 다양한 공정의 시스템을 제어하는 데 일반적으로 사용됩니다.
Edwards 용량계 게이지
소형, 표준, 열선식 등 세 가지 주요 모델로 제공되며 다양한 전체 스케일 범위를 통해 대기 상태에서 1e-4mbar까지 정확하게 제어할 수 있습니다.
전체 스케일이 여러 개 있는 당사의 모든 제품과 함께, 공정 범위를 다루는 게이지를 선택하는 것은 간단합니다.
또한 게이지가 오염 물질(통합 배플, 세라믹 코팅, 다이어프램 실드)에 대한 여러 보호 기능을 갖추고 있으며, 시중에서 최고의 제로 드리프트에 대한 저항력을 갖추고 있다는 사실을 쉽게 알 수 있습니다.
이러한 게이지에 대한 로컬 디스플레이가 필요한 경우, 표준 활성 게이지와 함께 모든 Barocel 게이지에서 작동할 수 있는 TIC 컨트롤러의 특수한 모델을 제공합니다.
한 번에 총 6개의 게이지(가열식/비가열식에 따라 최대 3개의 Barocel 게이지)를 연결할 수 있으므로 단일 제어기로 시스템의 여러 영역을 처리할 수 있습니다.
