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Atlas Abgasmanagement

Atlas bietet konkurrenzlose Leistung bei der Abgasreinigung

Atlas-Abgasreinigungstechnologie: eine Reihe von Lösungen für die Verbrennungsgasreinigung – speziell für Ihren Prozess:

  • Atlas TCS für die üblichen CVD-Gase (NF3/F2)
  • Atlas TPU für PFC-Gase (ClF3, C2F6, C3F8) bei CVD-Prozessen
  • Atlas Kronis für die low-k CVD-Gase in Next-Generation-Prozessen
  • Atlas Etch für Halbleiterätz- und Flachbildschirmprozesse (CF4, SF6 und High Flow PFCs)
  • Atlas Helios zur sicheren Behandlung von Wasserstoffprozessen bei der Epitaxie und MOCVD

Atlas™-Systeme haben im Vergleich zu Abgasreinigungsgeräten der vorherigen Generation einen niedrigen Kraftstoffverbrauch. Wir verwenden die bewährte nach innen gerichtete Alzeta™-Verbrennungstechnologie, um deutlich geringere Betriebskosten zu erzielen. Mit ein bis sechs Einlässen mit einer Reihe von Optionen, darunter ein Temperaturmanagementsystem (TMS), können Atlas-Systeme eine Durchflusskapazität von bis zu 1.200 slm behandeln. Sie sind so konzipiert, dass sie einfach zu bedienen sind und eine effizientere Wartung ermöglichen.

Nach innen gerichtete Verbrennungstechnologie von Edwards

Die von den meisten großen Halbleiterherstellern verwendete nach innen gerichtete Verbrennungseinheit hat sich seit 1994 zu einem weltweiten Standard in der Abgasreinigung entwickelt.

Unsere einzigartige Verbrennungstechnologie sorgt dank der gleichmäßigen Verbrennungstemperatur für sehr geringe Hintergrundemissionen. Der Gaseinstrom verhindert den Kontakt des Prozessmaterials mit den Kammerwänden, wodurch die Verstopfung durch Feststoffe minimiert wird. Die exklusive Zusammensetzung des Verbrennungsmaterials sorgt für eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und trägt dazu bei, dass das Atlas-System unübertroffene Zuverlässigkeit und Sicherheit gewährleistet.

In unserem hochmodernen Umweltinnovationszentrum haben wir Lösungen prozessoptimiert, praxiserprobt und von Dritten verifizieren lassen, um eine herausragende Leistung zu sichern. DRE-Lösungen zur Abgasreinigung reichen in der Regel über die globalen und lokalen Gesetze hinaus:

    SiH4 und andere Halogenide unter TLV

    NF3: > 99 % / < TLV

    F2: > 99 % / < TLV

    CF4: > 90 %

    Andere PFCs: > 99 %

Mit einer großen Anzahl installierter Lösungen, einem beispiellosen globalen Anwendungsteam und ausgezeichnetem Service-Support können wir die beste Lösung für Ihre Prozessanforderungen anbieten. Setzen Sie sich mit unserem Team in Verbindung, und wir können zusammenarbeiten, um die perfekte Lösung zu finden.

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