Atlas

ATLAS – Performances de traitement inégalées

Technologie de traitement d’Atlas : une gamme de solutions de traitement des gaz de combustion, spécifiquement adaptée à votre procédé :

  • Atlas TCS pour les gaz CVD communs (NF3/F2)
  • Atlas TPU pour les gaz PFC (ClF3, C2F6, C3F8) des procédés CVD
  • Atlas Kronis pour les gaz CVD à faible k des procédés nouvelle génération
  • Atlas Etch pour les procédés de gravure Semicon et d’écrans plats (CF4, SF6 et PFC à haut débit)
  • Atlas Helios pour un traitement sûr des procédés d’hydrogène en épitaxie et MOCVD

Les systèmes Atlas™ consomment peu de combustible par rapport aux dispositifs de traitement des gaz d'ancienne génération. Nous utilisons la technologie éprouvée du groupe de combustion à allumage interne Alzeta™ pour réduire considérablement les coûts de possession. Dotés d’une à six entrées et de plusieurs options, notamment un système de gestion de température (TMS), les systèmes Atlas présentent un débit maximal de 1 200 slm. Ils sont conçus pour être faciles à utiliser et ils permettent un entretien plus efficace.

Technologie de combustion à allumage interne d’Edwards

Employée par la plupart des principaux fabricants de semi-conducteurs, le groupe de combustion à allumage interne est considérée comme une norme internationale du traitement des gaz depuis 1994.

Notre technologie de combustion unique fonctionne à une température de combustion uniforme, garantissant de très faibles émissions résiduelles, tandis que le flux interne des gaz évite tout contact entre les substances de procédé et les parois de la chambre, ce qui réduit les risques d’obstruction. La composition exclusive des matériaux du groupe de combustion permet une résistance accrue à la corrosion et confère à l’Atlas un niveau de fiabilité et de sécurité inégalé.

Dans notre centre d’innovation environnementale de haute technologie, nous avons perfectionné nos solutions pour obtenir d’excellentes performances, confirmées sur le terrain. En matière de traitement, les DRE vont généralement au-delà des législations internationales et locales :

    SiH4 et autres halogénures sous TLV

    NF3 : >99 % / <TLV

    F2 : >99 % / <TLV

    CF4 : >90 %

    Autres PFC : >99 %

Grâce à notre impressionnante base installée, nos incomparables équipes d’applications et de maintenance, nous pouvons vous proposer la meilleure des solutions, adaptée aux besoins de vos procédés. Prenez contact avec nos équipes et nous mettrons sur pied une collaboration fructueuse.