La technique PVD et le système PVD-4 de Vinci Technologies
Vinci Technologies a developpé le PVD-4, un système complet "Plug & Play" qui permet de réaliser des dépôts de couches fines. Ce système PVD-4 est équipé de matériels Edwards.
La technique PVD (Physical Vapor Deposition) consiste à évaporer à partir d’une source d’énergie (Laser, canon à électrons, effet Joule, magnétron cathodique) des matériaux cibles sur un échantillon afin de créer de nouveaux matériaux par dépôts successifs de couches atomiques.
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Les matériels Edwards embarqués sur le PVD-4
- la pompe sèche à spirale nXDS6i: elle permet de rapidement faire le vide primaire et comme toute pompe sèche, elle évite les risques de contamination. Son entretien est facilement réalisable par l'utilisateur.
- la pompe Turbo nEXT300D: elle prend le relai pour faire le vide secondaire. Notre pompe Turbo nEXT a les meilleures vitesses de pompage de sa catégorie et l'entretien est également facilement réalisable par l'utilisateur.
- une jauge WRG et une jauge active APG100: pour mesurer le vide. Ces 2 jauges offrent d’excellentes performances telles que la précision la répétabilité.
