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Richard Salloum과 함께 하는 Edwards의 EUV 수소 희석

EUV 리소그래피는 고정밀 집적 회로의 대량 제조를 가능하게 하는 데 도움이 됩니다. 이는 환경 친화적인 제품에 대한 수요를 증가시키는 동시에 고객의 생산성을 극대화하고 있습니다.

고객의 직접 배출을 줄이기 위해 Edwards는 서브팹의 천연 가스 사용을 중단하고 EUV 리소그래피를 위한 배기 가스 관리 방식을 변경하는 솔루션을 개발했습니다.

지속 가능성을 염두에 두고 Edwards의 혁신 팀은 EUV용 가스 연소 저감 장치에 대한 연료가 필요 없는 대안인 수소 희석 시스템 또는 H2D를 개발했습니다.

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비디오 및 트랜스크립트

제품 관리자의 역할은 무엇인가요?

제품 관리자로서 우리는 항상 고객의 요구 사항을 파악하기 위해 노력하고 있으며 기본적으로 고객의 요구 사항과 고객이 원하는 것을 예측하기 위해 노력하고 있습니다.

우리는 화석 연료와 한정된 자원을 사용하는 현재 제품을 희석 제품으로 대체하여 환경에 더 좋고, 고객에게 더 효과적이며, 생산성을 향상시키는 방법에 대해 이야기할 것입니다. 

EUV의 현재 시장 동인은 무엇인가요?

5G, 인공 지능 및 칩 제조의 급속한 성장으로 인해 성능은 향상되고 전력 소비는 낮은 집적 회로에 대한 필요성이 커지고 있습니다. 칩 제조업체는 신기술에 지속적으로 투자하고 새로운 공정을 개발하여 급속한 디지털 기술의 성장을 충족하고 지원하는 솔루션을 제공하고 있습니다.

EUV 리소그래피는 칩 제조업체가 초창기부터 반도체 산업에서 진전을 이룩한 기능과 장치 크기를 지속적으로 줄일 수 있도록 합니다. 대량 제조업체에서 EUV를 사용하기 위해 필요한 투자는 칩 제조업체가 합당한 수익을 달성하기 위해 출력을 극대화해야 한다는 엄청난 압력을 받고 있음을 의미합니다.

EUV 공구의 전반적인 처리량은 기본적으로 고정되어 있으므로 칩 제조업체는 운영 비용을 줄이고 처리량을 최대화하며 환경 비용을 절감해야 합니다. 즉, 생산성을 극대화하는 동시에 환경 친화적인 제품이 필요합니다. 

글로벌 EUV 고객이 직면한 과제는 무엇인가요?

고객은 지속 가능한 방식으로 환경 친화적으로 제조된 집적 회로를 생산해야 한다는 큰 압박을 받고 있습니다. 과학 기반 목표 이니셔티브온실 가스 프로토콜과 같은 지속 가능한 목표를 달성하기 위해 고객은 탄소 발자국을 줄일 수 있는 새롭고 혁신적인 방법을 찾고 있으며, 동시에 EUV 공구의 가동 시간을 개선하고 안전에도 초점을 맞춰야 합니다. 

 

이러한 문제를 어떻게 해결할 수 있나요?

 

대부분의 고객은 온실 가스 프로토콜의 범위 1 및 2를 줄이기 위해 노력하고 있습니다. 이는 환경에 미치는 영향과 이에 상응하는 CO2 배출량을 줄이기 위해 노력하고 있다는 것을 의미합니다. 우리가 EUV Zenith 시스템에서 전통적으로 사용하는 저감 시스템은 천연 가스를 사용하여 수소를 연소합니다. 수소는 EUV 공구가 집적 회로에서 작동하고 패턴을 생성할 수 있도록 하는 공정 가스입니다. 이러한 배기 가스를 관리하는 기존의 방법은 통제된 방식으로 연소하는 것이지만, 수소 희석 제품은 팬 메커니즘을 구동하는 데만 전력을 사용하므로 보다 안전하고 소유 비용이 낮으며 환경 친화적입니다. 

 

H2D는 어떻게 작동하나요?

 

H2D는 EUV Zenith 시스템과 통합됩니다. Edwards는 수소 공정 가스를 부피당 낮은 비율로 팬을 사용하여 안전하게 희석하고, 안전 수준 이하가 되면 대기 중으로 배출합니다.

 

안전

 

혁신의 기술은 수소 배기가스를 안전하게 처리하는 동시에 서브팹에서 일하는 사람들을 보호하는 제품을 제공하는 데 있으며, 우리는 팹 주변에 거주하는 지역 사회에 대한 기업의 사회적 책임이 있으므로 배기가스가 안전한 수준으로 희석되도록 해야 합니다. 

 

H2D가 고객에게 어떤 이점을 제공할 수 있나요?

 

우리는 고객이 지속 가능성과 안전을 개선해야 한다는 것을 알고 있으며, 고객의 생산성도 개선하여 고객이 시장에서 성공할 수 있도록 해야 합니다. H2D는 공기 연소 기술에 비해 유지보수 관련 활동이 크게 줄어들어 팹의 EUV 공구의 성능과 가용성을 향상시킬 것이며, 이중 팬 개념을 통해 수소 흐름 중에 100%의 가동 시간을 제공하는 중복 작동 및 일상적인 유지보수를 수행할 수 있습니다. 현재 차세대 EUV 도구를 지원하기 위해 고용량 H2D를 개발 중입니다.

따라서 H2D의 핵심 사항은 환경 비용을 줄이고 수소를 안전하게 희석하여 안전성을 확보하고 고객의 생산성을 향상시키는 것입니다.

이 주제에 대한 자세한 내용은 David Engerran의 논문 'HVM EUV 리소그래피의 통합 진공 과제 이해'를 아래에서 다운로드할 수 있습니다.

Understanding the integrated vacuum challenges of HVM EUV Lithography - PDF

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