서브팹을 최대로 이용할 수 있습니다.
오늘날 빠르게 변화하면서도 서로 연결된 세상에서, Edwards는 고객의 생산성을 최대화할 필요성을 느낍니다. 따라서 기술을 최우선으로 하여 시장에 접근하는 동시에 제조 공정에서 있을 수 있는 위험과 환경적인 어려움을 줄이도록 지속적으로 노력하고 있습니다.
고객에게 가장 좋은 솔루션이란 통합된 접근이라고 생각하며, 솔루션은 당사의 국제적인 경험을 바탕으로 고객이 원하는 전체 진공 및 배기 관리를 추구합니다. 혁신의 핵심에서 이 통합된 솔루션을 통해 제품의 장점과 반복적인 서비스를 제공하여 고객에게 개선된 생산성, 안전 및 친환경성 재확보와 같은 혜택을 드립니다.
이 혁신적인 첨단 자외선 반도체 인쇄 공정은 짧게 EUVL 또는 EUV라고도 하며, 선두 반도체 칩 제조업체들이 대부분의 고급 반도체 부품에 사용하고자 계획 중인 차세대 인쇄 기술입니다. 이 기술은 무어의 법칙이 계속되고 있다는 것을 확인한다는 점에서 역사적으로 중요합니다. 이러한 EUV에 대한 당면 과제는 도구 가용시간입니다. 완전 통합형 서브팹 솔루션으로 EUV 인쇄 제조에 커다란 혜택을 볼 수 있습니다. 10년 이상 서브팹 관점에서 EUV를 구현하기 위해 노력한 당사의 혁신적인 선두 기술 솔루션과 시스템화 역량은 안전하게 관리되는 환경 속에서 EUV 공정 가동시간과 처리량을 최대화하기 위한 노력으로 계속됩니다.
Edwards에서는 도전 과제를 완전하게 이해하고 있습니다.
글로벌 경험을 이용하여 고객의 성공을 실현시켜드립니다.
유량을 더 많이 처리하는데 더 큰 도구가 필요한 것은 아닙니다.
재활용/재사용
고객의 필요에 맞출 수 있는 역량과 경험이 있습니다. 유량을 두 배 더 처리한다는 것은 시스템의 크기도 두 배여야 한다는 뜻은 아닙니다. 경험이 풍부한 제품 기업, 계정 팀, 서비스 지원 및 글로벌 전문성
EZENITH는 모든 반도체 공정 어플리케이션을 위한 완전 통합형 진공 및 배기 관리 솔루션을 제공하는 고급 시스템 포트폴리오를 제공합니다. EZENITH 시스템은 다음과 같은 독보적인 기능을 제공합니다.
공정 가동 준비를 완료하려면 펌프와 가스 저감 기기 외에도 필요한 것이 더 있습니다. 펌프 배기부를 연결하고, 필요한 곳에 라인 히터를 연결하고, 용수, 퍼지, 전선을 가동하고 나서 제어 신호까지 모두 준비해야 합니다. 또한 이중 인클로저, 가스 누출 탐지도 고려해야 하며 도구 유지보수 후 어떤 방법으로 누출을 검사할지도 생각해야 합니다. 이 모든 것에 설계 시간과 돈이 듭니다. 이런 문제점을 잘 이해하고 있으며 통합형 공정 특화 솔루션을 개발했습니다.
Edwards의 통합형 시스템은 대부분의 반도체 공정에 맞도록 사전에 설계를 마친 시스템입니다. 배기 히터는 비용을 최소화하고 가동시간을 최대화하기 위해 정확한 온도로 설정되어 있습니다. 누출 점검 포트와 게이트 밸브도 필요한 곳에 장착되어 있습니다. 전체 시스템은 폐쇄되어 있으며, 따라서 필요한 유틸리티를 각각 연결하기만 하면 됩니다. 이 점이 가장 중요합니다. 가스, 용수, 전기, 제어 신호를 필요한 곳에 분배하여 가동 준비가 완료된 시스템을 만듭니다.
