Atlas biedt ongeëvenaarde bestrijdingsprestaties
Atlas™ van Edwards biedt een uitstekende betrouwbaarheid, een uitstekende poederverwerking en corrosiebestendigheid, en levert bestrijdingsprestaties voor de halfgeleider-, vlakpaneel-, zonne-energie- en MOCVD-industrie.
Atlas bestrijdingstechnologie: een reeks oplossingen voor de bestrijding van verbrandingsgassen – specifiek voor uw proces:
- Atlas TCS voor gangbare CVD-gassen (NF3/F2)
- Atlas TPU voor PFC-gassen (ClF3, C2F6, C3F8) in CVD-processen
- Atlas Kronis voor de lage k CVD-gassen in de volgende generatie processen
- Atlas Etch voor halfgeleiderets- en flat panel-displayprocessen (CF4, SF6 en PFC's met hoog debiet)
- Atlas Helios voor de veilige behandeling van waterstofprocessen in epitaxie en MOCVD
Atlas™-systemen hebben een laag brandstofverbruik in vergelijking met gasbehandelingsapparaten van de vorige generatie. Wij gebruiken de bewezen Alzeta™ inwendig gestookte verbrandingskamertechnologie om de eigendomskosten aanzienlijk te verlagen. Met één tot zes inlaten met een aantal opties, waaronder een temperatuurbeheersysteem (TMS), kunnen Atlas-systemen een debietcapaciteit tot 1.200 slm verwerken. Ze zijn ontworpen om gebruiksvriendelijk te zijn en efficiënter onderhoud mogelijk te maken.
Inwendige verbrandingstechnologie van Edwards
De inwaarts gestookte verbrandingskamer, die door de meeste grote halfgeleiderfabrikanten wordt gebruikt, is sinds 1994 een wereldstandaard in gasreductie geworden.
Onze unieke verbrandingstechnologie werkt met een uniforme verbrandingstemperatuur. Dit zorgt voor zeer lage achtergrondemissies en de ingaande gasstroom voorkomt dat het procesmateriaal in contact komt met de kamerwanden, waardoor verstopping door vaste stoffen tot een minimum wordt beperkt. De exclusieve samenstelling van het materiaal van de verbrandingskamer zorgt voor een superieure corrosiebestendigheid en draagt bij aan een ongeëvenaarde betrouwbaarheid en veiligheid van de Atlas.
In ons state-of-the-art milieu-innovatiecentrum hebben we procesgerichte oplossingen voor uitstekende prestaties, die in het veld zijn bewezen en door derden zijn geverifieerd. DRE's voor reductie gaan doorgaans verder dan de wereldwijde en lokale wetgeving:
SiH4 en andere halogeniden onder TLV
NF3: >99% / <TLV
F2:: >99% / <TLV
CF4: >90%
Andere PFC's: >99%
Met een uitgebreide installatiebasis, een ongeëvenaard wereldwijd toepassingsteam en serviceondersteuning kunnen wij de beste oplossing bieden die is ontworpen voor uw procesbehoeften. Neem contact op met ons team en we kunnen samenwerken aan de ultieme oplossing.
