De productiviteit van onze klanten ondersteunen
De beschikbaarheid van SubFab maximaliseren
In de snel veranderende, verbonden wereld van vandaag begrijpen we de noodzaak om de productiviteit van onze klanten te maximaliseren. Dit doen we door ervoor te zorgen dat hun technologie als eerste op de markt komt, terwijl we blijven streven naar het verminderen van de risico's en milieu-uitdagingen die het productieproces met zich meebrengt.
De geïntegreerde oplossingen van Edwards beoordelen de volledige behoeften van de klant op het gebied van vacuüm- en uitlaatbeheer, op basis van onze wereldwijde ervaring en met de meest geavanceerde technologieën in de sector. Onze geïntegreerde systemen bieden de voordelen van product- en servicereproduceerbaarheid en ruimtebesparing. Ze zorgen voor een verbeterde productiviteit, veiligheid en gemoedsrust. Onze geïntegreerde systemen bieden ook de directe voordelen van een snellere installatie en setup, schaalvoordelen en verbeterde veiligheid.
- EUV
- EZENITH
- Regis
Het innovatieve proces van extreme ultraviolette lithografie, kortweg bekend als EUVL of EUV, is de volgende generatie lithografietechnologie die toonaangevende fabrikanten van halfgeleiderchips willen gebruiken bij de productie van de meest geavanceerde halfgeleidercomponenten. Deze technologie is van historisch belang, omdat ze de verdere uitbreiding van de wet van Moore mogelijk maakt. De onmiddellijke uitdaging voor EUV is de uptime van het gereedschap. Onze volledig geïntegreerde subfab-oplossing biedt aanzienlijke voordelen voor de productie van EUV-lithografie. Met meer dan 10 jaar ervaring in het realiseren van EUV's vanuit een subfab-perspectief blijven onze innovatieve, toonaangevende technologische oplossingen en systematiseringsmogelijkheden ernaar streven om maximale uptime en opbrengst van EUV-processen binnen een beheerde veilige omgeving mogelijk te maken.
Wij begrijpen de uitdagingen
- Risico-evaluatie
Onze wereldwijde ervaring gebruiken om het succes van klanten te garanderen
- Energiezuinig
Hogere debieten betekenen geen grotere gereedschappen
Hergebruiken
- Schaling
Het vermogen en de ervaring om zich aan te passen aan de eisen van de klant. Dubbele stromen betekenen geen verdubbeling van de omvang van een productbedrijf met systeemervaring, accountteams, serviceondersteuning en wereldwijde expertise
Edwards EUV-systeem
De EZENITH biedt een geavanceerd portfolio van systemen die volledig geïntegreerde vacuüm- en uitlaatbeheeroplossingen bieden voor al uw halfgeleiderprocestoepassingen. De EZENITH-systemen zijn uniek in het aanbieden van:
- Procesgericht vacuüm- en uitlaatbeheer
- Volledige integratie van componenten
- Ondersteuning van elke functie met een krachtige, geïntegreerde besturingsinterface
- Ontworpen voor efficiënt gebruik van ruimte – voor besparingen tot 70%
- Volledige interne distributie, regeling en bewaking van diensten vermindert de aansluiting op nutsvoorzieningen met meer dan 60% en zorgt tegelijkertijd voor een soepele en betrouwbare werking
Met slechts een pomp en een gasreductieapparaat bent u nog steeds niet klaar om uw proces uit te voeren. U moet de pompuitlaat aansluiten, uw leidingverwarmers aansluiten waar nodig, uw water-, zuiverings- en elektrische leidingen laten lopen en vervolgens al uw stuursignalen klaarzetten. U moet ook nadenken over dubbele behuizing, gaslekdetectie en hoe u lekcontroles wilt uitvoeren na het onderhoud van uw gereedschap. Al deze dingen kosten u ontwerptijd en geld. Wij begrijpen het probleem en hebben daarom geïntegreerde, processpecifieke oplossingen ontwikkeld.
Onze geïntegreerde systemen zijn al vooraf ontworpen voor de meeste halfgeleiderprocessen. De uitlaatverwarmingen zijn ingesteld op de juiste temperatuur om de kosten te minimaliseren en de bedrijfstijd te maximaliseren. We plaatsen lekcontrolepoorten en afsluitkleppen waar ze nodig zijn. Het hele systeem is gesloten en, belangrijker nog, u hoeft slechts één van elk van de vereiste nutsvoorzieningen te leveren. We verdelen de gassen, water, elektriciteit en regelsignalen waar ze nodig zijn en creëren een kant-en-klaar systeem.
Regis (Reactive Gas Inject System) is een chemisch reagerend systeem dat gebruikmaakt van externe plasmatechnologie om de levensduur van de pomp te verlengen.
De nieuwste generatie Regis heeft een uniek reactiekamerontwerp dat ervoor zorgt dat procesgassen efficiënt worden gereageerd voordat ze de pomp binnenkomen, waardoor de levensduur van de pomp wordt verlengd tot meer dan 300 dagen.
In vergelijking met de vorige generatie Regis is de voetafdruk met 26,5% gereduceerd. Het nieuwe Regis-systeem in combinatie met droge vacuümpompen uit de heavy-duty serie biedt maximale pompuptime en processtabiliteit voor een reeks processen.
Kenmerken en voordelen zijn onder meer:
- Lage gebruikskosten:
ReGIS verlengt de levensduur van de pomp tot 300 dagen of meer
Geoptimaliseerde NF3-stroom met behulp van FTIR-onderzoeken om CoO tot een minimum te beperken.
De reactie-efficiëntie is met 100% toegenomen dankzij het nieuwe ontwerp van de reactiekamer.
- Maximaliseert de uptime van het gereedschap:
Continue online werking.
Minder stilstandtijd van het gereedschap door frequente pompvervangingen.
- Volledig gesloten systeem met kastafzuigpoort inbegrepen.
- PLC-besturing:
Gereedschapssignaalregeling ReGIS Plasma ontstekingscapaciteit.
Verbeterde veiligheid.
Volledige systeembewaking.
- Maakt processtabiliteit mogelijk:
Geen verlies van prestaties.
Geen veranderingen in geleiding.
Edwards Regis