集成解决方案

使车间可用性最大化

支持客户的生产效率

在当今瞬息万变、互联互通的世界中,我们深知最大限度提高客户生产效率的必要性。为此,我们确保客户的技术首先进入市场,同时继续努力降低制造过程可能带来的风险和环境挑战。

我们相信,对于客户而言,需要的解决方案是一种集成方法,一种基于我们全球经验,着眼于客户整体真空和尾气处理需求的解决方案。我们的集成解决方案是我们创新的核心,使我们能够帮助客户在产品和服务可重复性方面更具优势,从而为客户带来更高的生产效率、安全性和环境保障。

EUV

极紫外光刻技术的创新制程(简称为 EUVL 或 EUV)是新一代光刻技术,领先的半导体芯片制造商将其用于制造最先进的半导体组件。这项技术具有历史性的重要意义,因为它使摩尔定律得以延续。EUV 面临的最紧迫的挑战是工具的正常运行时间。我们完全集成的车间解决方案将为 EUV 光刻制造带来显著优势。我们从车间层面推动 EUV 已超过 10 年,我们领先的创新技术解决方案和系统化能力将继续努力,以在可管理的安全环境中实现 EUV 制程的正常运行时间以及产量的最大化。

我们完全了解所面临的挑战

  • 风险管理

利用我们的全球经验来确保客户的成功

  • 节能

流量越大,并不意味着需要更大的工具

回收 / 再利用

  • 规模化

适应客户需求的能力和经验。双倍流量并不意味着系统经验丰富的产品公司、客户团队、服务支持和全球专业知识的规模就会增加一倍

EZENITH 提供先进的系统产品组合,为您的所有半导体制程应用提供完全集成的真空和尾气处理解决方案。EZENITH 系统具有以下独特之处:

  • 以制程为中心的真空和尾气处理管理
  • 组件完全集成
  • 通过功能强大的集成控制界面支持每种功能
  • 专为有效利用空间而设计 —— 空间节省高达 70%
  • 对服务进行全面的内部分配、监管和监控,减少了 60% 以上的公用设施连接,同时确保运行平稳可靠

仅仅拥有真空泵和尾气处理设备,无法运行制程。您将需要在必要时连接真空泵的排气和管线加热器,运行水系统、吹扫系统和电气线路,然后将所有的控制信号准备好。您还必须考虑双重外壳、气体泄漏检测以及在工具维护后如何进行泄漏检查。所有这些都将让您花费设计时间和金钱。我们了解问题所在,因此我们开发了制程专用的集成解决方案。

我们的集成系统已针对大多数半导体制程进行了预设计。排气加热器设置为正确的温度,以最大程度地降低成本及延长正常运行时间。我们将泄漏检查端口和插板阀放到需要的地方。整个系统是封闭的,并且最重要的是,您只需要提供其所需的公共设施之一即可。我们将气体、水、电和控制信号分配到需要的地方,并在那里创建了一个随时可用的系统。