半导体干泵

全球真空领域的创新基准

更环保、更可靠,总体使用成本更低

通过增加正常运行时间、减少对环境的影响以及良好的成本效益,iXM 低能耗干泵可为您的关键应用带来真正的制程改进。

  • 高效的根源机制可将输入功率减少多达 60%,从而减少对环境的影响并降低总体使用成本
  • 气体阻隔技术和隔热设计方面的改进使产品的抗腐蚀性比我们之前的系列提高了四倍
  • 先进的粉尘处理功能可为多层蚀刻工艺提供更高的可靠性,延长真空泵使用寿命,并降低 CVD 工艺的功耗
  • 紧凑轻巧的设计,加上极低的噪声和振动,可提供更多的用途
  • 采用 Xcede 技术,增强了耐腐蚀性。

iXH 干泵系列为严苛的工艺能力、可靠性和更低的拥有成本树立了新标准。

  • 宽广的温度范围使您可以对真空设备进行优化,更大地减少冷凝和电镀的副产物累积
  • iXH Mk2 干泵可在严苛的工艺中提供更长的使用寿命,并且可以显著提高功效
  • 创新的密封技术可以延长制程寿命并降低泄漏风险
  • 采用 Xcede 技术,增强了耐腐蚀性。

iXL 系列是系列低能耗紧凑型干泵,适用于轻量应用,例如晶片处理、PVD 和计量。

  • 快速腔体抽空和极低功耗 
  • iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵是轻量应用中最小、最安静的泵之一 
  • iXL600M 和 iXL1000M 两种型号经过工艺加固,专门设计用于电介质(氧化)蚀刻和其他类似应用 
  • iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵具有高抽取速度和低能耗的特点
  • iXL900R 是目前同类产品中速度最快的负载锁定泵,用于 FPD 负载锁定应用。使用这种新型泵,客户可以显著降低其运营成本和安装时间,特别适用于等离子体气相沉积 (PVD) 应用的最大负载锁定腔室。此外,每个负载锁定腔室需要的泵会更少,从而减少了客户的安装时间、系统化成本、维护和公共设施消耗。
  • “绿色模式”可减少闲置期间的公共设施使用、降低成本并有助于提高环境绩效