Solutions intégrées

Le procédé innovant de lithographie dans l’ultraviolet extrême (UVE dans sa forme abrégée), est la technologie de lithographie de nouvelle génération que les fabricants de puces de semi-conducteurs de premier plan prévoient d'utiliser pour la fabrication des composants de semi-conducteurs les plus avancés. Cette technologie a une importance historique, car elle permet de repousser encore la loi de Moore. Pour l'UVE, la difficulté immédiate réside dans la disponibilité de l'outil. Notre solution atelier, entièrement intégrée, apportera des avantages significatifs à la fabrication de lithographie par UVE. Avec plus de 10 ans d'utilisation de l'UVE dans nos ateliers, nos solutions technologiques innovantes et nos capacités de systématisation de pointe visent toujours à optimiser le temps de fonctionnement et à offrir un rendement maximum du procédé UVE dans un environnement sûr et maîtrisé.

Nous saisissons parfaitement les défis qui se posent

• Gestion des risques

Assurer la réussite des clients grâce à notre expérience internationale

• Conservation de l'énergie

Flux plus élevés ne riment pas avec outils plus grands

Recyclage/réutilisation

• Décapage

Capacité et expérience pour répondre aux exigences des clients. Doubler les flux ne signifie pas doubler la taille d'une société de produits, d'équipes de compte, d'un service de maintenance et d'une expertise internationale

EZENITH propose une gamme avancée de systèmes fournissant des solutions de gestion du vide et de traitement des effluents gazeux entièrement intégrées pour l'ensemble de vos applications de procédés recourant à des semi-conducteurs. Les systèmes EZENITH se distinguent par leur offre :

• Gestion du vide et traitement des effluents gazeux axés sur les procédés
• Intégration complète des composants
• Assistance pour chaque fonction avec une interface de contrôle efficace et intégrée
• Conception permettant une utilisation efficace de l'espace (pour des économies allant jusqu'à 70 %)
• Distribution interne complète, régulation et suivi des maintenances réduisant de plus de 60 % la consommation énergétique, tout en assurant un fonctionnement aisé et fiable

Avec une simple pompe et un dispositif de réduction des gaz, vous n'êtes toujours pas prêt à faire fonctionner votre procédé. Vous devrez connecter l'échappement de la pompe, connecter les réchauffeurs en ligne si nécessaire, faire fonctionner vos conduites d'eau, de purge et électriques, puis préparer tous vos signaux de commande. Vous devrez également tenir compte de la détection de fuites de gaz, la double enceinte et la manière dont vous souhaitez contrôler les fuites après l'entretien de votre outil. Tous ces éléments représentent du temps de conception et de l'argent. Nous comprenons le problème. Nous avons donc développé des solutions intégrées spécifiques aux procédés.

Nos systèmes intégrés sont déjà préconçus pour la plupart des procédés de semi-conducteurs. Les réchauffeurs à échappement sont réglés sur la température correcte afin de limiter les coûts et d'optimiser le temps de fonctionnement. Nous avons mis aux emplacements nécessaires des orifices de contrôle des fuites et des robinets-vannes. L'ensemble du système est fermé et, plus important encore, un seul des utilitaires est nécessaire. Nous distribuons les gaz, l'eau, l'électricité et les signaux de commande là où ils sont requis et créons un système prêt à l'emploi. 

Regis (système d'injection de gaz réactif) est un système à réaction chimique qui utilise la technologie plasma à distance pour augmenter la durée de vie de la pompe.

La dernière génération de Regis dispose d'une chambre à réaction unique garantissant que les gaz de procédé réagissent efficacement avant leur entrée dans la pompe, prolongeant ainsi à plus de 300 jours la durée de vie de la pompe.

Par rapport à la génération précédente, l'empreinte a été réduite de 26,5 % avec ce nouveau système Regis. Celui-ci, associé à des pompes à vide sèches de série destinées à une utilisation intensive, offre une disponibilité optimale de la pompe et préserve la stabilité du procédé pour une série de processus.

Caractéristiques et avantages :

• Faibles coûts de possession :

Regis prolonge de 300 jours ou plus la durée de vie de la pompe

Flux NF3 optimisé grâce aux études FTIR pour minimiser les coûts d'exploitation.

L'efficacité de réaction a augmenté de 100 % grâce à la nouvelle conception de la chambre à réaction.

• Optimise le temps de disponibilité de l'outil :

Fonctionnement continu en ligne.

Réduction des temps d'arrêt des outils causés par les fréquents remplacements de pompes.

• Système entièrement fermé avec port d'extraction de l'armoire inclus.

• Contrôle par PLC :

Capacité d'allumage de la commande du signal d'outil ReGIS Plasma.

Sécurité renforcée.

Surveillance complète du système.

• Permet la stabilité du procédé :

Aucune perte de performances.

Aucune modification de la conductance.