Understanding the integrated vacuum challenges of HVM EUV Lithography - PDF
與 Richard Salloum 一同瞭解愛德華的 EUV 氫稀釋
EUV 微影製程有助於大量製造高精度的積體電路。這增加了對生產環保產品的需求，同時也讓我們的客戶發揮最大生產力。
為降低客戶的直接排放量，愛德華開發了捨棄子晶圓廠使用天然氣的解決方案，並改變 EUV 微影製程管理排放氣體的方式。
考量永續性，愛德華的創新團隊為 EUV 的燃氣減排開發了無燃料的替代方案，即氫稀釋系統或稱 H2D。
影片文字稿
產品經理的工作是什麼？
身為產品經理，我們總是試著掌握客戶需求，基本上我們會試圖預測客戶的未來需求和他們想要什麼。
我們將討論稀釋如何取代我們目前使用化石燃料和有限資源的產品，並以對環境更友善、對客戶執行更有效並提高其生產力的稀釋產品做為替代。
EUV 目前的市場驅動因素為何？
5G、人工智慧，以及晶片製造的快速成長，帶動了對於具備更高效能及更低功耗的積體電路的需求。晶片製造商持續投資新技術並開發新製程，以提供符合並支援快速數位技術成長的解決方案。
EUV 微影技術讓晶片製造商得以持續縮小特性和裝置尺寸，這從該技術最早期便定義了半導體製造的進程。大規模製造商使用 EUV 的投資需求，即意味著晶片製造商背負最大化產量以獲得可接受報酬的龐大壓力。
EUV 工具的整體產量基本上是固定的，因此晶片製造商必須設法降低營運成本、最大化產量，同時降低環境成本。簡而言之，需要環保而同時最大化生產力的產品。
全球 EUV 客戶面臨哪些挑戰？
我們的客戶面臨以永續和環保方式生產積體電路的巨大壓力。致力於永續性目標，例如科學基礎減量目標倡議 (Science-Based Targets initiative) 以及溫室氣體盤查議定書 (Greenhouse Gas Protocol)，代表我們的客戶正在尋求全新且創新的方式來減少碳足跡，同時仍需要專注於改善 EUV 工具的正常運作時間，以及專注於安全。
如何解決這些問題？
我們大部分的客戶都致力於減少《溫室氣體盤查議定書》(Greenhouse Gas Protocol) 的範疇一和二，這表示他們承諾要降低其對環境的影響及 CO2 的排放量。我們傳統上在 EUV Zenith 系統上使用的減排系統是運用天然氣燃燒氫氣。氫氣是讓 EUV 工具運作並在積體電路產生型樣化的製程氣體。我們管理該排放氣體的傳統方式是以控制下的方式燃燒，而氫氣稀釋產品較安全、擁有成本較低，而且對環境更友善，因為其僅使用電力驅動風扇機制。
H2D 如何運作？
H2D 整合於我們的 EUV Zenith 系統。我們用風扇將氫製程氣體安全地稀釋至低百分比體積濃度，然後在低於安全濃度後，將其排入大氣中。
安全性
創新的技術在於提供能安全處理氫排放氣體的產品，同時保護在子晶圓廠工作人員，而我們顯然對於晶圓廠周遭社區負有企業社會責任，因此我們必須確保排放氣體稀釋至安全濃度。
H2D 如何使我們的客戶獲益？
我們瞭解客戶需要提升永續性和安全性，但我們也需要改善客戶生產力，讓他們在市場中獲得成功。相較於空氣燃燒技術，H2D 透過大幅減少維護相關活動，改善晶圓廠中 EUV 工具的效能與可用性，備援操作提供百分之百的正常運作時間，且運用我們的雙風扇概念，例行維護可在氫氣流動期間執行。我們目前正在開發更大容量的 H2D，以支援下一代 EUV 工具。
因此，H2D 的關鍵重點為降低環境成本、透過安全地稀釋氫氣因此很安全，且也能為客戶提高生產力。
若要進一步瞭解此主題，請於下方下載 David Engerran 的論文〈瞭解 HVM EUV 光刻在整合式真空上面臨的挑戰〉(Understanding the integrated vacuum challenges of HVM EUV Lithography)。
