Understanding the integrated vacuum challenges of HVM EUV Lithography - PDF
与 Richard Salloum 探讨 EDWARDS 的 EUV 氢稀释
EUV 光刻技术有助于实现高精度集成电路的大批量制造。这增加了对环保产品的需求，同时也有效提高了我们客户的生产率。
为了减少客户的直接排放，Edwards 开发了一种解决方案，该解决方案在辅助间中不再使用天然气，并改变了 EUV 光刻技术的废气管理方式。
出于可持续发展的考虑，Edwards 创新团队开发了一种用于 EUV（氢稀释系统或 H2D）燃气减排的无燃料替代方案。
视频脚本
产品经理的职责是什么？
作为产品经理，我们一直努力捕捉客户需求，从本质上说，我们尝试预测客户需求的未来以及他们希望如何做。
我们将讨论稀释如何取代目前使用化石燃料和有限资源的产品，并将其替换为稀释产品，因为这对环境更有利，对客户的生产运行更有效，并能提高其生产率。
EUV 的当前市场驱动因素是什么？
5G、人工智能和芯片制造的快速增长推动了对具有更高性能和更低功耗的集成电路的需求。芯片制造商将继续投资于新技术并开发新工艺，以提供满足和支持快速数字技术增长的解决方案。
EUV 光刻技术使芯片制造商能够持续缩小特征和器件尺寸，而这正是半导体制造业从诞生之初就取得进步的关键所在。在大批量制造商中使用 EUV 所需的投资意味着芯片制造商将面临巨大压力，他们必须有效提高产量以获得可接受的回报。
EUV 机台的整体产量基本上是固定的，因此芯片制造商必须努力降低运营成本，有效提高产量并降低环境成本。简而言之，我们需要环保产品，同时还要有效提高生产率。
全球 EUV 客户正面临哪些挑战？
我们的客户面临着巨大的压力，需要以可持续和环保的方式生产集成电路。承诺实现科学减碳目标倡议和温室气体议定书等可持续目标，这一点促使我们的客户努力寻找新的创新方法来减少碳排放，但仍需要专注于改善 E U V 机台的正常运行时间，同时注重安全性。
如何解决这些问题？
我们的大多数客户都承诺减少《温室气体议定书》范围一和范围二的排放，这意味着他们承诺减少对环境的影响和二氧化碳排放当量。我们传统上用于 EUV Zenith 系统的减排系统使用天然气燃烧氢气。氢气是一种工艺气体，它能使 EUV 机台运行并在集成电路上产生图案结构。我们管理废气的传统方式是以受控的方式燃烧废气，而氢稀释产品更安全，拥有成本更低，并且更环保，因为它只使用电力来驱动风扇机构。
H2D 如何工作？
H2D 与我们的 EUV Zenith 系统集成。我们使用风扇将工艺氢气安全地稀释至较低的体积百分比，然后在低于安全水平后将其排放到大气中。
安全
创新的艺术在于提供这样一种产品：既能安全地处理氢废气，又能保护在辅助间工作的人员，而且我们显然对生活在晶圆厂周围的社区负有企业社会责任，因此我们需要确保将废气稀释至安全水平。
H2D 如何使我们的客户受益？
我们深知客户需要提高可持续性和安全性，而同时我们也需要提高客户的生产率，以使他们能够在其市场中取得成功。与空气燃烧技术相比，H2D 能显著减少维护相关活动，从而提高晶圆厂中 EUV 机台的性能和可用性，而利用我们的双风扇概念，可以在氢气流动期间进行冗余操作（这能可靠地保证正常运行时间）和日常维护。我们目前正在开发更高容量的 H2D，以支持新一代 EUV 机台。
因此，H2D 的关键要点是，它可以降低环境成本，通过安全地稀释氢来确保安全，并且还可以提高我们客户的生产率。
要阅读有关此主题的更多内容，可下载下面的 David Engerran 的论文“了解 HVM EUV 光刻技术的集成真空挑战”。
