集成解决方案

创新的极紫外光刻（简称 EUVL 或 EUV）工艺是排名靠前的半导体芯片制造商计划用于先进半导体元件制造的新一代光刻技术。这项技术可促进行业持续地扩展摩尔定律，具有划时代的意义。但是，EUV 面临工具正常运行时间受限的直接挑战。我们完全集成的车间解决方案将为 EUV 光刻制造工艺带来显著的好处。凭借 10 余年来在车间为 EUV 提供支持的经验，我们创新的先进技术解决方案和系统化能力将继续致力于在受控的安全环境中实现尽可能长的 EUV 工艺正常运行时间和尽可能多的产量。

我们完全了解所面临的挑战

• 风险管理

利用我们的全球经验来确保客户的成功

• 节能

流量更大并不意味着需要更大的工具

回收/再利用

• 撬毛

适应客户需求的能力和经验。双流量并不意味着系统的尺寸也增加一倍。尽享经验丰富的公司资源、客户团队、服务支持以及全球专业知识

EZENITH 提供先进的系统产品组合，为您的所有半导体制程应用提供完全集成的真空和排气管理解决方案。EZENITH 系统具有以下独特之处：

• 以制程为中心的真空和排气管理
• 组件完全集成
• 通过功能强大的集成控制界面支持每种功能
• 专为有效利用空间而设计——空间节省高达 70％
• 对服务进行全面的内部分配、监管和监控，减少了 60% 以上的公用设施连接，同时确保运行平稳可靠

只有泵和气体减排装置，还不能让工艺流程运转起来。您还需要连接泵排气管，以及在需要时连接管路加热器，让水、净化和电气回路正常运行，确保所有控制信号都工作正常。您还必须考虑双外壳、气体泄漏检测以及在工具维护后如何执行泄漏检查等。所有这些任务都要消费大量的设计时间和资金。我们深知您面临的这个难题，并制定了针对特定工艺的综合解决方案。

我们的集成系统已经针对大多数半导体制程进行了预先设计。排气加热器已设置为正确的温度，以尽可能地降低成本和延长正常运行时间。我们在需要的位置提供了泄漏检查端口和闸阀。整个系统是一个封闭的机组，您只需提供各种所需的公用设施即可。我们会将气、水、电和控制信号分配到需要的地方，为您打造一套可直接投入使用的系统。 

Regis（活性气体注入系统）是一种使用远程等离子技术来延长泵使用寿命的化学反应系统。

新一代 Regis 采用独特的反应室设计，可确保工艺气体在进入泵之前高效地进行反应，从而将泵的使用寿命延长至 300 天以上。

与上一代 Regis 相比，新一代系统的占地面积减少了 26.5%。新型 Regis 系统与重型应用系列的干式真空泵相结合，为一系列工艺流程提供尽可能长的泵运行时间和尽可能高的工艺稳定性。

功能和优势：

• 拥有成本更低：

Regis 可将泵的使用寿命延长至 300 天或更长时间

使用 FTIR 研究优化了 NF3 流速，以尽可能降低 CoO。

由于采用了新的反应室设计，反应效率提高了一倍。

• 充分延长工具正常运行时间：

在线连续运行。

缩短了频繁换泵导致的工具停机时间。

• 全封闭系统，包括机柜抽取端口。

• PLC 控制：

工具信号控制 ReGIS 等离子点火功能。

增强的安全性。

全面的系统监控。

• 促进工艺稳定性：

性能无损。

电导率无变化。