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腔体解决方案

如果您对分子泵的要求是性能稳定且维护需求低,那你要来看看我们的 STP 磁悬浮涡轮分子泵系列。转子完全由磁悬浮轴承悬起 – 非常适合要求运行时间长、无烃式抽送、维护少且振动低的应用。

Advanced 高处理能力系列

Advanced 系列可提供高水平的处理能力,非常适合您的半导体蚀刻和 CVD 制程:

  • 占用空间小
  • 处理速度介于 300 l/s 至 4500 l/s 之间
  • 处理能力高达 6 slm,并提高了 H2、N2 和 Ar 性能

  • 完全集成的控制器和电源
  • 超高真空
  • 超高真空低振动系列
完全集成的控制器和电源

这种多合一的涡轮泵解决方案消除了传统机器所需的连接电缆和机架:

  • 减少了占地面积,可节省宝贵的厂房面积、安装时间和成本
  • 板上电源在高气体流量下将能耗降低达 32%
  • 以 300 l/s 至 4500 l/s 的处理速度运行
超高真空

超高真空系列提供出色的可靠性、性能、清洁度并实现优异的低振动水平:

  • 直流电源,无需电池
  • 半机架控制器具有自动调整和高级诊断功能
  • 速度介于 300 l/s 至 1000 l/s 之间,极限压力 <10-10 mbar,CF 法兰
  • 还提供用于严苛制程的“C”型号
超高真空低振动系列

超高真空低振动型号拥有超高真空系列的全部功能,加上内置的隔振器,可为您带来超低振动性能。

这种多合一的涡轮泵解决方案消除了传统机器所需的连接电缆和机架:

  • 减少了占地面积,可节省宝贵的厂房面积、安装时间和成本
  • 板上电源在高气体流量下将能耗降低达 32%
  • 以 300 l/s 至 4500 l/s 的处理速度运行

超高真空系列提供出色的可靠性、性能、清洁度并实现优异的低振动水平:

  • 直流电源,无需电池
  • 半机架控制器具有自动调整和高级诊断功能
  • 速度介于 300 l/s 至 1000 l/s 之间,极限压力 <10-10 mbar,CF 法兰
  • 还提供用于严苛制程的“C”型号

超高真空低振动型号拥有超高真空系列的全部功能,加上内置的隔振器,可为您带来超低振动性能。

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