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Proteus 宽型

Edwards Proteus

Proteus 是一种低功耗、易使用且经济高效的解决方案,可减少半导体制造过程的碳排放。

  • 低功耗、高效率等离子技术
  • 等离子功率调制器
  • 氮氧化物排放少
  • 维修间隔 (MTBS) 长
  • 使用 Proteus Dual 保障正常运行时间

  1. 独特的低功率等离子技术,对 PFC 气体(如 CF4)和其他温室气体(如 SF6、NF3 和 N2O)具有很高的破坏率效率 (DRE)。这使得 Proteus 成为减少半导体制程温室气体的经济高效的解决方案之一。
  2. Proteus Plasma 的工作功率可根据进气负载进行全面调节,使用户能够充分降低功耗,同时保持出色的处理效率。通过连接流程工具和等离子功率自动调制器,可以为降低运营成本同时保持较高环保性能提供更多的机会。
  3. PFC 气体减排需要施加高温,这会促使 NOx 气体的形成。Proteus Plasma 技术的开发目的是为了尽量减少“热 NOx”排放,现在已成为优秀的“低排放 NOx”PFC 减排系统之一。
  4. PFC 分子的破坏过程往往会因为产生有毒的和腐蚀性水溶化合物而增加酸负荷。Proteus Plasma 的等离子炬和湿法洗涤阶段经过专门设计,可充分减少部件腐蚀。结合出色的粉末处理能力,Proteus 能够在保持工厂安全工作环境的同时实现较长的维修间隔 (MTBS)。
  5. Proteus Dual 提供了一种完全集成的“备用”解决方案,可帮助确保减排的可用性,同时不需要复杂的管道和连接。Proteus Dual 是一种经济高效、易于安装的解决方案。它有助于保持流程正常运行、减少占地面积和安装成本,同时提高车间的安全性。

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