Proteus

温室气体处理新基准

Edwards Proteus

Proteus 是一种低功耗、易于使用且经济高效的解决方案,可减少半导体制造过程的碳排放。

  • 低功耗、高效率等离子技术
  • 等离子功率调制器
  • 低氮氧化物排放
  • 长 MTBS
  • 使用 Proteus Dual 保障正常运行时间

  1. 一种独特的低功耗等离子技术,可实现 PFC 气体(例如 CF4)和其他温室气体(例如 SF6、NF3 和 N2O)的高销毁率(DRE)。这使 Proteus 成为减少半导体制造过程中温室气体排放的最经济高效的解决方案之一。
  2. Proteus Plasma 的工作功率可根据进气负载随意可调,使用户能够将功耗降至最低,同时保持最佳的处理效率。该产品与制程工具和自动等离子功率调制器连接,可进一步降低运营成本,同时保持最高的环保绩效。
  3. PFC 气体减排需要可以促进氮氧化物气体形成的高温。Proteus Plasma 技术的开发是为了最大程度地减少“热氮氧化物”的排放,现已成为领先的“低氮氧化物” PFC 减排系统之一。
  4. 破坏 PFC 分子往往会因产生有毒和腐蚀性的水溶性化合物而增加酸负荷。Proteus Plasma 炬式涤气和湿法洗涤阶段经过专门设计,可最大程度地减少组件腐蚀。结合出色的粉末处理能力,Proteus 能够实现长 MTBS,同时在工厂中保持安全的工作环境。
  5. Proteus Dual 提供了一个完全集成的“后备”解决方案,无需复杂的管件和接口就可以确保减排的有效性。Proteus Dual 是一种经济高效且易于安装的解决方案。它有助于维持制程正常运行时间、减少占地面积和安装成本,同时提高车间的安全性。

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