Edwards——百年创新

2019年1月14日

今年是我们的 100 周年庆

Edwards Vacuum 的 100 年

F.D. Edwards 先生和百年真空

真空推动科学技术的进步

Edwards 在过去 100 年中取得了重大进展,并继续在科学和技术领域发挥着越来越重要的作用。即使在过去十年间,我们也已看到许多新的真空应用的出现和增长,包括智能手机和平板电脑、HB LED 照明、太阳能光伏电池板和用于电动汽车的锂离子电池的生产。如果我们简单地看一下现代智能手机,那么需要真空作为关键工艺推动要素的制品非常多,从先进的半导体设备,如处理器和内存、mems 传感器、高分辨率 LCD/LED 屏幕、LED 手电筒和锂离子电池,到外壳成型,以及防反光、防油污的屏幕涂层。如果没有真空助力的产品,很难想象今天的生活。

真空和尾气处理对半导体工艺的重要性

在半导体工艺方面,真空和尾气处理是 sub-fab 实现摩尔定律的两个最重要的功能。真空泵抽空制程腔体,为每个工艺步骤提供所需的压力和流量,同时去除未使用的制程气体和副产品,然后将其传递到尾气处理系统进行处理以便安全排放或处置。

在 20 世纪 80 年代,新的半导体工艺和不断增加的气体流量,致使需用油润滑的“湿”泵中所用的油产生了腐蚀性化学品和固体积聚的问题,从而导致泵维护服务间隔短,拥有成本高。开发并引进无需用油的“干泵”,这些问题得以解决。Edwards 的 Henry Wycliffe 于 1984 年注册了罗茨/爪式干泵的专利,该专利很快就被用作实现复杂半导体工艺的新技术,并且从那时起,Edwards 不断创新以实现半导体工艺、以及用于摩尔定律加速的复杂且具有挑战性的化学品的快速发展。在许多情况下,如果没有真空和尾气处理设备的重大创新,就不可能有新的工艺。

我们产品对环境的影响也受到广泛的创新方面的关注。仅真空泵就可占半导体制造设施总能耗的 25%,而 Edwards 在创新方面拥有良好的记录,可提供更高效、可持续性更好的产品,同时也解决了越来越多的泵送气体化学方面具挑战性的难题。例如,我们最新的第 5 代半导体干泵使用的能源不到其前代产品的 50%,同时提供的性能更高级、维修间隔更长、占地面积小很多以提高sub-fab的空间利用率。同样,我们的尾气处理系统可以安全地处理具有挑战性的气体,我们每年阻止的气体释放量相当于约 1400 万吨的二氧化碳排放。

Edwards 真空与尾气处理方面创新的力量

Edwards 先生是一位非常成功的企业家,他创造了一个使创新得以蓬勃发展的环境。从那以后,这一直保持在 Edwards 的 DNA 中。我们服务的许多市场和应用都是不断变化的,并且经常对我们产品提出多变的、新的挑战性需求,因此,能够为复杂挑战开发创新解决方案,是推动 Edwards 和我们客户前进的关键因素。

为了保持领先于所有新的真空关键应用,Edwards 进行多种创新,成功开发了一系列新产品和新技术。事实上,目前我们拥有超过 20 种不同的原理用于创造真空和减少气体排放,以及超过 2300 种已获批准的专利和待批专利系列。

真空未来一瞥

无论未来会发生什么,真空将继续发挥关键的推动作用。需要真空应用的规模和数量不断扩大,而技术转换一定会发生,Edwards 有能力提供创新的解决方案使其成为可能。

当我们环顾日常生活时,很容易看到对新的、改进的解决方案的持续需求是由一些普遍的主题驱动的,例如数字世界和具有更高处理能力的、更智能的互联产品带来的机会。我们将继续专注于通过令产品更节能、更省料来最大限度地减少对环境的影响的解决方案,并以可持续和富有成效的方式支持科学技术的突破——这些都至关重要。

“我相信 F.D Edwards 先生将对 Edwards 在其整个 100 年的历史中所取得的成就感到非常自豪,而我们对创新的持续关注和投资能使我们在未来 100 年中处于有利位置!