Stödja våra kunders produktivitet

Maximera SubFabs tillgänglighet

I dagens snabbrörliga, uppkopplade värld förstår vi behovet av att maximera våra kunders produktivitet. Vi gör detta genom att säkerställa att deras teknik är först ut på marknaden, samtidigt som vi fortsätter att sträva efter att minska de risker och miljöutmaningar som tillverkningsprocessen kan medföra.

Edwards integrerade lösningar bedömer hela kundens behov av vakuum- och utloppshantering, baserat på vår globala erfarenhet, med den mest avancerade tekniken i branschen. Våra integrerade system erbjuder fördelarna med repeterbarhet för produkter och tjänster och utrymmesbesparing. De förbättrar produktiviteten, säkerheten och miljön. Våra integrerade system ger också direkta fördelar som snabbare installation och inställning, skalfördelar och förbättrad säkerhet.

EUV
EZENITH
Regis

Den innovativa processen med extrem ultraviolett litografi, som i sin korta form kallas EUVL eller EUV, är nästa generations litografiteknik som ledande halvledarchiptillverkare planerar att använda vid tillverkning av de mest avancerade halvledarkomponenterna. Tekniken har historisk betydelse eftersom den möjliggör en fortsatt utökning av Moores lag. Den omedelbara utmaningen för EUV är verktygets drifttid. Vår helt integrerade subfab-lösning kommer att ge betydande fördelar för tillverkning av EUV-litografi. Med över 10 års erfarenhet av att möjliggöra EUV ur ett subfab-perspektiv fortsätter våra innovativa ledande tekniska lösningar och systemiseringsmöjligheter att sträva efter att möjliggöra maximal drifttid och avkastning för EUV-processen inom en hanterad säker miljö.

Vi förstår utmaningarna fullt ut

Hantera risker

Använda vår globala erfarenhet för att säkerställa kundernas framgång

Energieffektiviseringar

Högre flöden betyder inte större verktyg

Återvinnings-

Avflagning.

Förmågan och erfarenheten att anpassa sig till kundernas krav. Dubbla flöden innebär inte att systemerfaret produktföretag, kundteam, servicesupport och global expertis fördubblas

Edwards EUV-system

EZENITH erbjuder en avancerad portfölj med system som tillhandahåller helt integrerade lösningar för vakuum- och utloppshantering för alla dina halvledarprocesstillämpningar. EZENITH-systemen är unika när det gäller att erbjuda:

Processcentrerad vakuum- och utloppshantering
Fullständig integrering av komponenter
Stöd för varje funktion med ett kraftfullt, integrerat kontrollgränssnitt
Utformad för effektiv användning av utrymme – för besparingar på upp till 70 %
Fullständig intern distribution, reglering och övervakning av tjänster minskar anslutningen till elnätet med över 60 % samtidigt som en smidig och tillförlitlig drift säkerställs

Med bara en pump och en gasreduceringsenhet är du fortfarande inte redo att köra din process. Du måste ansluta pumputloppet, ansluta dina ledningsvärmare där det behövs, köra dina vatten-, avluftnings- och elledningar och sedan göra alla dina styrsignaler redo. Du måste också överväga dubbelkapsling, gasläckagedetektering och hur du vill utföra läckagekontroller efter verktygsunderhåll. Allt detta kommer att kosta dig designtid och pengar. Vi förstår problemet och har därför utvecklat integrerade, processpecifika lösningar.

Våra integrerade system är redan förkonstruerade för de flesta halvledarprocesser. Avgasvärmarna är inställda på rätt temperatur för att minimera kostnaderna och maximera drifttiden. Vi placerar läcktestportar och spjällventiler där de behövs. Hela systemet är inkapslat och viktigast av allt behöver du bara tillhandahålla en av de nödvändiga försörjningsenheterna. Vi distribuerar gaser, vatten, el och styrsignaler där de behövs och skapar ett driftklart system.

Regis (Reactive Gas Inject System) är ett kemiskt reagerande system som använder fjärrplasmateknik för att öka pumpens livslängd.

Den senaste generationen Regis har en unik reaktionskammare som säkerställer att processgaserna reagerar effektivt innan de kommer in i pumpen, vilket förlänger pumpens livslängd till mer än 300 dagar.

Jämfört med föregående generation av Regis har fotavtrycket minskat med 26,5 %. Det nya Regis-systemet i kombination med torra vakuumpumpar i den tuffa serien ger maximal pumpdrifttid och processtabilitet för en rad olika processer.

Egenskaper & fördelar: