Suporte à produtividade de nossos clientes
Maximizar a disponibilidade da subfábrica
No mundo conectado e dinâmico de hoje, entendemos a necessidade de maximizar a produtividade de nossos clientes. Fazemos isso garantindo que sua tecnologia seja a primeira no mercado, enquanto continuamos nos esforçando para reduzir os riscos e os desafios ambientais que o processo de fabricação pode trazer.
As soluções integradas da Edwards avaliam todas as necessidades de gerenciamento de vácuo e exaustão do cliente, com base em nossa experiência global, com as tecnologias mais avançadas do setor. Nossos sistemas integrados oferecem as vantagens de repetibilidade de produtos e serviços e economia de espaço. Eles trazem maior produtividade, segurança e garantia ambiental. Nossos sistemas integrados também trazem benefícios diretos de instalação e configuração mais rápidas, economias de escala e maior segurança.
- EUV
- EZENITH
- Regis
EUV
O processo inovador de litografia ultravioleta extrema, conhecido em sua forma abreviada como EUVL ou EUV, é a tecnologia de litografia de última geração que os principais fabricantes de chips semicondutores planejam usar na fabricação dos componentes semicondutores mais avançados. Essa tecnologia tem uma importância histórica, pois vem possibilitando a continuação da Lei de Moore. O desafio imediato para a EUV é o tempo de atividade da ferramenta. Nossa solução de subfábrica totalmente integrada trará benefícios significativos para a fabricação de litografia EUV. Com mais de 10 anos de habilitação em EUV de uma perspectiva de subfábrica, nossas inovadoras soluções tecnológicas e recursos de sistematização continuam se esforçando para permitir o tempo máximo de atividade e rendimento do processo EUV em um ambiente seguro e gerenciado.
Compreendemos totalmente os desafios
- Gerenciamento de Risco
Usar nossa experiência global para garantir o sucesso dos clientes
- Conservação de energia
Fluxos mais altos não significam ferramentas maiores
Reciclagem/Reuso
- Decapar
A capacidade e a experiência de se adaptar às demandas dos clientes. Fluxos dobrados não significam dobrar o tamanho do sistema observado na empresa de produtos, equipes de contas, suporte de serviços e experiência global
Sistema EUV da Edwards
EZENITH
A EZENITH oferece um portfólio avançado de sistemas que fornecem soluções de gerenciamento de vácuo e exaustão totalmente integradas para todas as suas aplicações de processos de semicondutores. Os sistemas EZENITH são exclusivos em fornecer:
- Gerenciamento de exaustão & vácuo com foco em processos
- Integração completa de componentes
- Suporte para cada função com uma interface de controle integrada e potente
- Projetado para uso eficiente do espaço - para economia de até 70%
- Distribuição interna completa, regulação e monitoramento de serviços, reduzindo a conexão da concessionária em mais de 60%, garantindo um funcionamento suave e confiável
Com apenas uma bomba e um dispositivo de redução de gás, você ainda não está pronto para executar seu processo. Você precisará conectar o exaustor da bomba, conectar os aquecedores de linha onde necessário, operar a água, purga e as linhas elétricas e, em seguida, preparar todos os seus sinais de controle. Você também terá que considerar o gabinete duplo, a detecção de vazamento de gás e como realizar verificações de vazamento após a manutenção da ferramenta. Todas essas coisas custarão tempo e dinheiro para o projeto. Entendemos o problema, por isso desenvolvemos soluções integradas e específicas do processo.
Nossos sistemas integrados já foram pré-projetados para a maioria dos processos de semicondutores. Os aquecedores de exaustão são ajustados para a temperatura correta para minimizar o custo e maximizar o tempo de atividade. Colocamos portas de retenção de vazamento e válvulas de gaveta onde elas são necessárias. Todo o sistema é fechado e, o mais importante, você só precisa fornecer um dos utilitários necessários. Distribuímos os gases, água, eletricidade e sinais de controle onde eles são necessários e criamos um sistema pronto para uso.
Regis
Regis (Reactive Gas Inject System) é um sistema de reação química que utiliza tecnologia de plasma remoto para aumentar a vida útil da bomba.
O Regis de última geração apresenta um design exclusivo da câmara de reação que garante que os gases do processo reajam de forma eficiente antes de entrar na bomba, estendendo a vida útil da bomba para mais de 300 dias.
Em comparação com a geração anterior Regis, a área ocupada foi reduzida em 26,5%. O novo sistema Regis, juntamente com bombas de vácuo a seco de série para trabalhos difíceis, proporciona o máximo tempo de atividade da bomba e estabilidade de processo para uma série de processos.
Características e benefícios:
- Baixo custo de propriedade:
O ReGIS estende a vida útil da bomba para 300 dias ou mais
Fluxo NF3 otimizado usando estudos FTIR para minimizar o CoO.
A eficiência da reação aumentou em 100% devido ao novo design da câmara de reação.
- Maximiza o tempo de atividade da ferramenta:
Operação contínua on-line.
Redução do tempo de paralisação da ferramenta devido a trocas frequentes de bombas.
- Sistema totalmente fechado com porta de extração de gabinete incluída.
- Controle por PLC:
Capacidade de ignição Tool Signal Control ReGIS Plasma.
Segurança aprimorada.
Monitoramento completo do sistema.
- Permite a estabilidade do processo:
Sem perda de desempenho.
Nenhuma alteração na condutância.
Regis Edwards
O processo inovador de litografia ultravioleta extrema, conhecido em sua forma abreviada como EUVL ou EUV, é a tecnologia de litografia de última geração que os principais fabricantes de chips semicondutores planejam usar na fabricação dos componentes semicondutores mais avançados. Essa tecnologia tem uma importância histórica, pois vem possibilitando a continuação da Lei de Moore. O desafio imediato para a EUV é o tempo de atividade da ferramenta. Nossa solução de subfábrica totalmente integrada trará benefícios significativos para a fabricação de litografia EUV. Com mais de 10 anos de habilitação em EUV de uma perspectiva de subfábrica, nossas inovadoras soluções tecnológicas e recursos de sistematização continuam se esforçando para permitir o tempo máximo de atividade e rendimento do processo EUV em um ambiente seguro e gerenciado.
Compreendemos totalmente os desafios
- Gerenciamento de Risco
Usar nossa experiência global para garantir o sucesso dos clientes
- Conservação de energia
Fluxos mais altos não significam ferramentas maiores
Reciclagem/Reuso
- Decapar
A capacidade e a experiência de se adaptar às demandas dos clientes. Fluxos dobrados não significam dobrar o tamanho do sistema observado na empresa de produtos, equipes de contas, suporte de serviços e experiência global
Sistema EUV da Edwards
A EZENITH oferece um portfólio avançado de sistemas que fornecem soluções de gerenciamento de vácuo e exaustão totalmente integradas para todas as suas aplicações de processos de semicondutores. Os sistemas EZENITH são exclusivos em fornecer:
- Gerenciamento de exaustão & vácuo com foco em processos
- Integração completa de componentes
- Suporte para cada função com uma interface de controle integrada e potente
- Projetado para uso eficiente do espaço - para economia de até 70%
- Distribuição interna completa, regulação e monitoramento de serviços, reduzindo a conexão da concessionária em mais de 60%, garantindo um funcionamento suave e confiável
Com apenas uma bomba e um dispositivo de redução de gás, você ainda não está pronto para executar seu processo. Você precisará conectar o exaustor da bomba, conectar os aquecedores de linha onde necessário, operar a água, purga e as linhas elétricas e, em seguida, preparar todos os seus sinais de controle. Você também terá que considerar o gabinete duplo, a detecção de vazamento de gás e como realizar verificações de vazamento após a manutenção da ferramenta. Todas essas coisas custarão tempo e dinheiro para o projeto. Entendemos o problema, por isso desenvolvemos soluções integradas e específicas do processo.
Nossos sistemas integrados já foram pré-projetados para a maioria dos processos de semicondutores. Os aquecedores de exaustão são ajustados para a temperatura correta para minimizar o custo e maximizar o tempo de atividade. Colocamos portas de retenção de vazamento e válvulas de gaveta onde elas são necessárias. Todo o sistema é fechado e, o mais importante, você só precisa fornecer um dos utilitários necessários. Distribuímos os gases, água, eletricidade e sinais de controle onde eles são necessários e criamos um sistema pronto para uso.
Regis (Reactive Gas Inject System) é um sistema de reação química que utiliza tecnologia de plasma remoto para aumentar a vida útil da bomba.
O Regis de última geração apresenta um design exclusivo da câmara de reação que garante que os gases do processo reajam de forma eficiente antes de entrar na bomba, estendendo a vida útil da bomba para mais de 300 dias.
Em comparação com a geração anterior Regis, a área ocupada foi reduzida em 26,5%. O novo sistema Regis, juntamente com bombas de vácuo a seco de série para trabalhos difíceis, proporciona o máximo tempo de atividade da bomba e estabilidade de processo para uma série de processos.
Características e benefícios:
- Baixo custo de propriedade:
O ReGIS estende a vida útil da bomba para 300 dias ou mais
Fluxo NF3 otimizado usando estudos FTIR para minimizar o CoO.
A eficiência da reação aumentou em 100% devido ao novo design da câmara de reação.
- Maximiza o tempo de atividade da ferramenta:
Operação contínua on-line.
Redução do tempo de paralisação da ferramenta devido a trocas frequentes de bombas.
- Sistema totalmente fechado com porta de extração de gabinete incluída.
- Controle por PLC:
Capacidade de ignição Tool Signal Control ReGIS Plasma.
Segurança aprimorada.
Monitoramento completo do sistema.
- Permite a estabilidade do processo:
Sem perda de desempenho.
Nenhuma alteração na condutância.
Regis Edwards