Este navegador não é suportado

Você está usando um navegador que não é mais suportado. Para continuar visitando nosso site, escolha um dos seguintes navegadores compatíveis.

Atlas

Desempenho de redução incomparável

A Atlas oferece desempenho de redução incomparável

Tecnologia de redução Atlas: uma gama de soluções de redução de gás de combustão - específicas para o seu processo:

  • Atlas TCS para gases CVD comuns (NF3/F2)
  • Atlas TPU para gases PFC (ClF3, C2F6, C3F8) em processos CVD
  • A Atlas Kronis para gases CVD de baixo k em processos de última geração
  • A Atlas Etch para gravação de semicondutores e processos de monitor de tela plana (CF4, SF6 e PFCs de alto fluxo)
  • Atlas Helios para tratamento seguro de processos de hidrogênio na epitaxia e MOCVD

Os sistemas Atlas™ têm baixo consumo de combustível em comparação com os dispositivos de redução de gás da geração anterior. Usamos a comprovada tecnologia de combustor acionado internamente Alzeta™ para obter um custo de propriedade significativamente reduzido. Com uma a seis entradas com várias opções, incluindo um sistema de gerenciamento de temperatura (TMS), os sistemas Atlas podem tratar uma capacidade de fluxo de até 1.200 slm. Eles são projetados para serem fáceis de usar e permitir uma manutenção mais eficiente.

Tecnologia de combustão interna da Edwards

Usado pela maioria dos grandes fabricantes de semicondutores, o combustor acionado internamente se tornou um padrão mundial em redução de gás desde 1994.

Nossa exclusiva tecnologia de combustão opera com uma temperatura de combustão uniforme. Isso garante emissões de segundo plano muito baixas, e o fluxo interno de gás impede o contato do material do processo com as paredes da câmara, o que minimiza o bloqueio por sólidos. A composição exclusiva do material do combustor garante uma resistência superior à corrosão e ajuda a fornecer a Atlas uma confiabilidade e segurança incomparáveis.

Em nosso centro de inovação ambiental de última geração, temos soluções ajustadas para desempenho excepcional, comprovadas em campo e verificadas por terceiros. Os DREs de redução geralmente vão além da legislação global e local:

    SiH4 e outros haletos abaixo de TLV

    NF3 : >99% /

    F2 : : >99% /

    CF4 : >90%

    Other PFCs : >99%

Com uma ampla base de instalação, uma equipe de aplicações globais incomparáveis e suporte de serviços, podemos oferecer a melhor solução projetada para as necessidades de seu processo. Entre em contato com nossa equipe e podemos trabalhar juntos para obter a melhor resolução.

Mais produtos ambientais e de redução de fabricação de semicondutores da Edwards