Edwards, SEMICON 코리아에서 100년의 혁신을 축하하다

2019년 1월 23일 (수)

Edwards Vacuum의 100년

Edwards Celebrates 100 Years of Innovation at SEMICON Korea

올해 SEMICON® 코리아에서 Edwards는 칩 제조업체들이 오늘날의 까다롭고 다양한 마켓에서 경쟁력을 유지할 수 있도록 도와주는 혁신적인 솔루션을 선보인다. 더 작은 기술 노드에 더 복잡한 설계를 탑재한 칩에 대한 수요는 계속 증가하여, 수많은 반도체 제조 공정에서는 광범위한 기술 접근 및 소재를 이용하게 되었다. 이 모든 변화는 성공적인 구현하기 위해 새로운 진공 및 가스처리 방법론에 의지한 결과다.

Edwards는 올해 그 기술 혁신 역사 100주년을 맞았다. Edwards는 SEMICON 코리아에서 혁신, 생산성, 안전에 대한 다음과 같은 두 프레젠테이션을 통해 새로운 접근을 선보일 것이다.

˗ “CVD 전구물질과 관련 부산물 - 최대 챔버 생산성 확보", 발표자 Al Brightman, Sr. Edwards Product Manager 이 논문에서는 fab에서 장비 휴지 시간을 줄이고 생산성을 개선하기 위해 고안된 최적 진공 솔루션을 소개한다. 또한 이 솔루션은 현장 보건 및 안전 위험을 감소시키도록 포커스를 한다 (1월 23일 수요일, 룸 308호).

˗ “챔버 내 공정 진공을 통해 3D 및 높은 가로세로비 에칭 기술 구현", 발표자 Edwards Applications Manager, Adam Stover. 이 논문은 기존 펌핑의 어려움 및 증명된 솔루션뿐만 아니라 더욱 복잡한 3D NAND, PRAM 및 기타 기기 구조에 대한 가능성을 열어줄 수도 있는 독창적인 어플리케이션 도전 과제 또한 담고 있다(1월 24일 목요일, 룸 307호)

Edwards 부스(D104)에서는 응축 가능한 가스를 다루기 위해 특별히 설계한 대중적인 iXH 건식 진공 펌프의 차세대 모델을 선보인다. 이 제품은 혹독한 공정 환경을 위해 더 높은 온도를 견딜 수 있도록 설계했다.

"오늘날 안전하고 효과적인 공정 배기에 대한 우려가 증가하고 있으며, 특히 세계적으로 더욱더 엄격한 배출 가스 제한 기준이 생기고 있다."라고 Edwards 한국 윤재홍 부사장이 언급했다. "동시에, 기술을 선도하고 까다로운 신소재와 공정을 도입에는 각각 최적화된 진공 및 제거 솔루션이 필요하다. 예를 들어, 우리 차세대 iXH 펌프는 펌프 내부에 응축 가능한 소재가 누적되는 것을 방지하기 위해 특별히 설계되었다." 윤 부사장은 "올해 100주년을 맞는 Edwards는 우리 고객들과 계속해서 긴밀하게 협업하여 혁신을 이루어낼 수 있는 솔루션을 창출할 수 있기를 고대한다."

SEMICON 코리아 기간 동안 Edwards 부스 D104를 방문하여 서브팹 솔루션과 서비스에 대해 더 알아보십시오. SEMICON 코리아는 서울COEX에서 1월 23일부터 25일까지 개최된다.