EdwardsのAtlas™は、卓越した信頼性、優れた粉体処理、耐腐食性を実現し、半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽光、MOCVD産業に除害性能を提供します。
Atlas除害テクノロジー： 燃焼ガス除害ソリューションの範囲 - 貴社プロセスに特有：
Atlas™システムの燃料消費量は、従来型のガス除害装置と比較して減少しています。実績のあるAlzeta™内向き燃焼器テクノロジーを使用して、所有コストを大幅に削減します。温度管理システム (TMS) など多くのオプションを備えた1〜6個の注入口により、Atlasシステムは最大1,200 slmの流量を処理できます。使いやすく、より効率の高い保守が可能になるよう設計されています。
大部分の大手半導体メーカーで使用されている内部側燃焼機構は、1994年以来ガス除害の世界標準となっています。
当社独自の燃焼技術は均一な燃焼温度で動作する。これにより非常に低いバックグラウンド放出が保証され、ガスの内側への流れにより、プロセス材料がチャンバー壁と接触することがなくなるため、固体による閉塞が最小限に抑えられます。燃焼器材料の独自組成により優れた耐腐食性が確保され、比類ない信頼性と安全性をAtlasにもたらすのに役立ちます。
最先端の環境イノベーションセンターでは、卓越したパフォーマンス、現場での検証、サードパーティによる検証のためのプロセス調整ソリューションを提供しています。除害DREは通常、国際的/現地の法律を超えて拡張されます：
TLV以下のSiH4およびその他のハロゲン化物
NF3 : >99% / <TLV
F2 : : >99% / <TLV
CF4 : >90%
その他のPFC： >99%
広範なインストールベース、比類のないグローバル用途チーム、およびサービスサポートにより、顧客のプロセスニーズに合わせて設計された最適なソリューションを提供することができます。当社のチームまで連絡すれば、究極のソリューションのために連携することができます。
