Atlas

ATLAS - 比類のない除害パフォーマンス

Atlas除害テクノロジー: 燃焼ガス除害ソリューションの範囲 - 貴社プロセスに特有:

  • 一般CVDガス向けのAtlas TCS (NF3/F2)
  • CVDプロセスにおけるPFCガス向けのAtlas TPU (ClF3、C2F6、C3F8)
  • 次世代プロセスにおける低k CVDガス向けのAtlas Kronis
  • 半導体エッチングおよびフラットパネルディスプレイプロセス向けのAtlas Etch (CF4、SF6および高流量PFC)
  • エピタキシーおよびMOCVDでの水素プロセスの安全な処理向けのAtlas Helios

Atlas™システムの燃料消費量は、従来型のガス除害装置と比較して減少しています。実績のあるAlzeta™内向き燃焼器テクノロジーを使用して、所有コストを大幅に削減します。温度管理システム (TMS) など多くのオプションを備えた1〜6個の注入口により、Atlasシステムは最大1,200 slmの流量を処理できます。使いやすく、より効率の高い保守が可能になるよう設計されています。

Edwardsの内部側燃焼技術

大部分の大手半導体メーカーで使用されている内部側燃焼機構は、1994年以来ガス除害の世界標準となっています。

当社独自の燃焼技術は均一な燃焼温度で動作する。これにより非常に低いバックグラウンド放出が保証され、ガスの内側への流れにより、プロセス材料がチャンバー壁と接触することがなくなるため、固体による閉塞が最小限に抑えられます。燃焼器材料の独自組成により優れた耐腐食性が確保され、比類ない信頼性と安全性をAtlasにもたらすのに役立ちます。

最先端の環境イノベーションセンターでは、卓越したパフォーマンス、現場での検証、サードパーティによる検証のためのプロセス調整ソリューションを提供しています。除害DREは通常、国際的/現地の法律を超えて拡張されます:

    TLV以下のSiH4およびその他のハロゲン化物

    NF3 : >99% / <TLV

    F2 : : >99% / <TLV

    CF4 : >90%

    その他のPFC: >99%

広範なインストールベース、比類のないグローバル用途チーム、およびサービスサポートにより、顧客のプロセスニーズに合わせて設計された最適なソリューションを提供することができます。当社のチームまで連絡すれば、究極のソリューションのために連携することができます。