Massimizzazione della disponibilità a livello Sub Fab
Nel mondo di oggi, in rapida evoluzione e sempre più connesso, sappiamo che è necessario massimizzare la produttività dei nostri clienti e lo facciamo garantendo che la loro tecnologia sia la prima ad arrivare sul mercato, sforzandoci sempre di ridurre i rischi e di dare risposta alle sfide ambientali che il processo di produzione può comportare.
Crediamo che la soluzione migliore per i nostri clienti sia un approccio integrato, una soluzione basata sulla nostra esperienza globale che consideri tutte le esigenze di gestione del vuoto e dello scarico dei nostri clienti. Elemento centrale della nostra innovazione, la nostra soluzione integrata ci permette di fornire ai nostri clienti i vantaggi della ripetibilità del prodotto e del servizio che garantisce produttività, sicurezza e salvaguardia ambientale.
L'innovativo processo di litografia ultravioletta estrema, noto nella sua forma abbreviata come EUVL o EUV, è la tecnologia litografica di prossima generazione che i principali produttori di chip per semiconduttori intendono utilizzare nella produzione dei componenti per semiconduttori più avanzati. Questa tecnologia ha un'importanza storica, in quanto consente di continuare ad applicare la legge di Moore. La sfida immediata per l'EUV è il tempo di funzionamento dello strumento. La nostra soluzione Sub Fab completamente integrata porterà vantaggi significativi alla produzione litografica EUV: con oltre 10 anni di utilizzo di EUV a livello Sub Fab, le nostre soluzioni tecnologiche innovative e le nostre capacità di sistemizzazione si adoperano per consentire sempre il massimo tempo di funzionamento e la massima resa dei processi EUV in un ambiente sicuro e gestito.
Comprendiamo appieno le sfide
Utilizzo della nostra esperienza globale per garantire il successo dei clienti
Per ottenere flussi più elevati non sono necessari strumenti più grandi
Riciclaggio/riutilizzo
L'esperienza e la capacità di adattarsi alle richieste dei clienti. Raddoppiare i flussi non significa raddoppiare le dimensioni dell'azienda di prodotti con esperienza di sistema, dei team clienti, del servizio di assistenza e delle competenze globali
EZENITH offre un portafoglio avanzato di sistemi che forniscono soluzioni di gestione del vuoto e dello scarico completamente integrate per tutte le vostre applicazioni di processi per semiconduttori. I sistemi EZENITH sono unici nell'offerta di:
Una pompa e un dispositivo di abbattimento del gas da soli non sono sufficienti per l'esecuzione del vostro processo: dovrete collegare lo scarico della pompa, i riscaldatori di linea, se necessario, eseguire i collegamenti idrici, elettrici e di scarico e poi preparare tutti i segnali di controllo. Inoltre, dovrete anche considerare la doppia chiusura, il rilevamento delle perdite di gas e il modo in cui volete effettuare i controlli di queste ultime dopo la manutenzione degli strumenti. Tutto questo vi costerà tempo e denaro. Per risolvere questo problema abbiamo sviluppato soluzioni integrate e specifiche per i processi.
I nostri sistemi integrati sono già pre-progettati per la maggior parte dei processi per semiconduttori. I riscaldatori di scarico sono impostati sulla temperatura corretta per ridurre al minimo i costi e massimizzare i tempi di funzionamento. Abbiamo installato attacchi di controllo delle perdite e valvole a saracinesca laddove necessario. L'intero sistema è chiuso e, cosa più importante, dovrete solo fornire una di ciascuna delle utility necessarie. Distribuiamo i gas, l'acqua, l'elettricità e i segnali di controllo dove sono necessari e creiamo un sistema pronto all'uso.
