Maximiser la disponibilité dans les ateliers
Dans notre monde actuel, connecté et en pleine mutation, nous savons pertinemment qu’il est essentiel de maximiser la productivité de nos clients. Pour ce faire, nous veillons à ce que leur technologie soit à la pointe du progrès, tout en poursuivant nos efforts de réduction des risques et autres enjeux environnementaux propres aux procédés de fabrication.
Nous sommes convaincus que la meilleure solution pour nos clients consiste à déployer une approche intégrée tenant compte, sur la base de notre expérience internationale, de l’ensemble des besoins présents en matière de gestion du vide et de traitement des effluents gazeux. Ancrée au cœur de notre démarche innovante, notre solution intégrée nous permet de faire bénéficier nos clients des avantages de la reproductibilité des produits et services, une notion synonyme de productivité, sécurité et respect de l’environnement.
Le procédé innovant de lithographie extrême ultraviolet, EUVL ou EUV en abrégé, est une technologie lithographique nouvelle génération que les principaux fabricants de circuits intégrés envisagent d’adopter dans la fabrication des composants de semi-conducteurs les plus avancés. Cette technologie revêt une importance historique, car elle s’inscrit dans la continuité des lois de Moore. Elle est toutefois confrontée à un défi immédiat : celui du temps d’utilisation des outils. Notre solution intégrée d’atelier complète améliorera sensiblement les procédés de fabrication par lithographie EUV. Au service de cette technologie depuis plus de 10 ans à l’échelle des ateliers de production, nos solutions innovantes à la pointe de la technologie et nos capacités de systémisation continuent de viser la maximisation du temps d’utilisation et du rendement des procédés EUV dans un environnement sûr et maîtrisé.
Nous saisissons parfaitement les défis qui se posent
Assurer la réussite des clients grâce à notre expérience internationale
Flux plus élevés ne riment pas avec outils plus grands
Recyclage/réutilisation
La capacité et l’expérience nécessaires pour nous adapter aux besoins du client. Le doublement des flux n’implique pas de doubler la taille des sociétés de production, des équipes comptables, du service de maintenance et de l’expertise internationale.
EZENITH propose une gamme avancée de systèmes fournissant des solutions de gestion du vide et de traitement des effluents gazeux entièrement intégrées pour l’ensemble de vos applications de procédés recourant à des semi-conducteurs. Les systèmes EZENITH se distinguent par leur offre :
Une pompe et un dispositif de traitement des gaz ne suffisent pas à faire fonctionner votre procédé. Vous devez encore raccorder l’échappement de la pompe ainsi que vos réchauffeurs à l’endroit approprié, faire fonctionner l’eau, les purges et l’électricité, puis préparer l’ensemble de vos signaux de contrôle. Vous devez également envisager l’installation d’une double enceinte et d’un système de détection des fuites de gaz puis décider des modalités du contrôle de l’étanchéité après l’entretien de vos outils. Toutes ces activités vous prendront du temps et vous coûteront de l’argent. Étant bien conscients de ce problème, nous avons conçu des solutions intégrées et adaptées aux procédés.
Nos systèmes intégrés sont pensés dès le départ pour convenir à la plupart des procédés impliquant des semi-conducteurs. Les réchauffeurs d’échappement sont réglés sur la température idéale afin de réduire les coûts et de maximiser le temps d’utilisation. Nous prévoyons des orifices de contrôle de l’étanchéité et des vannes tiroirs aux endroits nécessaires. L’ensemble du système est pourvu d’une enceinte et, surtout, il vous suffit de fournir une seule fois les ressources requises. Nous fournissons l’eau, le gaz, l’électricité et les signaux de contrôle aux endroits nécessaires, et mettons au point un système prêt à l’emploi.
Le procédé innovant de lithographie extrême ultraviolet, EUVL ou EUV en abrégé, est une technologie lithographique nouvelle génération que les principaux fabricants de circuits intégrés envisagent d’adopter dans la fabrication des composants de semi-conducteurs les plus avancés. Cette technologie revêt une importance historique, car elle s’inscrit dans la continuité des lois de Moore. Elle est toutefois confrontée à un défi immédiat : celui du temps d’utilisation des outils. Notre solution intégrée d’atelier complète améliorera sensiblement les procédés de fabrication par lithographie EUV. Au service de cette technologie depuis plus de 10 ans à l’échelle des ateliers de production, nos solutions innovantes à la pointe de la technologie et nos capacités de systémisation continuent de viser la maximisation du temps d’utilisation et du rendement des procédés EUV dans un environnement sûr et maîtrisé.
Nous saisissons parfaitement les défis qui se posent
Assurer la réussite des clients grâce à notre expérience internationale
Flux plus élevés ne riment pas avec outils plus grands
Recyclage/réutilisation
La capacité et l’expérience nécessaires pour nous adapter aux besoins du client. Le doublement des flux n’implique pas de doubler la taille des sociétés de production, des équipes comptables, du service de maintenance et de l’expertise internationale.
EZENITH propose une gamme avancée de systèmes fournissant des solutions de gestion du vide et de traitement des effluents gazeux entièrement intégrées pour l’ensemble de vos applications de procédés recourant à des semi-conducteurs. Les systèmes EZENITH se distinguent par leur offre :
Une pompe et un dispositif de traitement des gaz ne suffisent pas à faire fonctionner votre procédé. Vous devez encore raccorder l’échappement de la pompe ainsi que vos réchauffeurs à l’endroit approprié, faire fonctionner l’eau, les purges et l’électricité, puis préparer l’ensemble de vos signaux de contrôle. Vous devez également envisager l’installation d’une double enceinte et d’un système de détection des fuites de gaz puis décider des modalités du contrôle de l’étanchéité après l’entretien de vos outils. Toutes ces activités vous prendront du temps et vous coûteront de l’argent. Étant bien conscients de ce problème, nous avons conçu des solutions intégrées et adaptées aux procédés.
Nos systèmes intégrés sont pensés dès le départ pour convenir à la plupart des procédés impliquant des semi-conducteurs. Les réchauffeurs d’échappement sont réglés sur la température idéale afin de réduire les coûts et de maximiser le temps d’utilisation. Nous prévoyons des orifices de contrôle de l’étanchéité et des vannes tiroirs aux endroits nécessaires. L’ensemble du système est pourvu d’une enceinte et, surtout, il vous suffit de fournir une seule fois les ressources requises. Nous fournissons l’eau, le gaz, l’électricité et les signaux de contrôle aux endroits nécessaires, et mettons au point un système prêt à l’emploi.
