Maximización de la disponibilidad sub-fab
En el mundo conectado y en constante movimiento de hoy, comprendemos la necesidad de maximizar la productividad de nuestros clientes. Para ello, garantizamos que su tecnología es la primera en el mercado y, al mismo tiempo, seguimos esforzándonos por reducir los riesgos y los problemas medioambientales que pueda producir el proceso de fabricación.
Creemos que la mejor solución para nuestros clientes es un enfoque integrado, una solución que analice todas sus necesidades de manejo de gases de escape y vacío con base en nuestra experiencia global. En el centro de nuestra innovación, nuestra solución integrada nos permite ofrecer a nuestros clientes las ventajas de la repetibilidad de nuestros productos y servicios, lo que les aporta una mejor productividad, seguridad y garantías medioambientales.
El innovador proceso de litografía ultravioleta extrema, también conocida como EUVL o EUV, es la tecnología de litografía de última generación que los principales fabricantes de semiconductores planean utilizar en la fabricación de los componentes más avanzados de los semiconductores. Esta tecnología tiene una importancia histórica, ya que permite la extensión continua de la Ley de Moore. El desafío inmediato de la EUV es el tiempo de actividad de la herramienta. Nuestra solución sub-fab completamente integrada traerá beneficios importantes a la fabricación de litografía EUV. Con más de 10 años de hacer posible la EUV desde una perspectiva sub-fab, nuestras innovadoras soluciones tecnológicas líderes y nuestras capacidades de sistematización continúan esforzándose para permitir el máximo tiempo de actividad en el proceso de EUV y un rendimiento dentro de un entorno seguro y controlado.
Comprendemos las dificultades cabalmente
Utilizamos nuestra experiencia global para garantizar el éxito de los clientes
Flujos más altos no son sinónimo de herramientas más grandes
Reciclaje/reutilización
La capacidad y la experiencia para adaptarnos a las demandas de los clientes. Los flujos dobles no implican duplicar el tamaño del sistema. Empresa con experiencia en productos, equipos de cuentas, servicio técnico y experiencia global
Edwards EUV system
EZENITH ofrece una cartera avanzada de sistemas que proporcionan soluciones totalmente integradas en el manejo de gases de escape y vacío para todas sus aplicaciones de procesos de semiconductores. Los sistemas EZENITH son los únicos que ofrecen lo que se indica a continuación:
Solo con una bomba y un dispositivo de eliminación de gases, aún no está listo para ejecutar su proceso. Tendrá que conectar el tubo de escape de la bomba, conectar los calentadores de la tubería cuando sea necesario, hacer funcionar las líneas de agua, purga y eléctrica y, luego, preparar todas las señales de control. También deberá tener en cuenta el doble cierre, la detección de fugas de gas y cómo desea realizar las revisiones de fugas después del mantenimiento de la herramienta. Todas estas cosas le costarán tiempo y dinero. Entendemos el problema, por lo que hemos desarrollado soluciones integradas y específicas para el proceso.
Nuestros sistemas integrados ya están prediseñados para la mayoría de los procesos de semiconductores. Los calentadores de la salida de gases están configurados a la temperatura correcta para minimizar los costos y maximizar el tiempo de funcionamiento. Colocamos puertos de verificación de fugas y válvulas de compuerta, cuando son necesarios. Todo el sistema se encuentra cerrado y, lo que es más importante, solo debe proporcionar uno de cada servicio necesario. Distribuimos los gases, el agua, la electricidad y las señales de control donde se necesitan y creamos un sistema listo para usar.
El innovador proceso de litografía ultravioleta extrema, también conocida como EUVL o EUV, es la tecnología de litografía de última generación que los principales fabricantes de semiconductores planean utilizar en la fabricación de los componentes más avanzados de los semiconductores. Esta tecnología tiene una importancia histórica, ya que permite la extensión continua de la Ley de Moore. El desafío inmediato de la EUV es el tiempo de actividad de la herramienta. Nuestra solución sub-fab completamente integrada traerá beneficios importantes a la fabricación de litografía EUV. Con más de 10 años de hacer posible la EUV desde una perspectiva sub-fab, nuestras innovadoras soluciones tecnológicas líderes y nuestras capacidades de sistematización continúan esforzándose para permitir el máximo tiempo de actividad en el proceso de EUV y un rendimiento dentro de un entorno seguro y controlado.
Comprendemos las dificultades cabalmente
Utilizamos nuestra experiencia global para garantizar el éxito de los clientes
Flujos más altos no son sinónimo de herramientas más grandes
Reciclaje/reutilización
La capacidad y la experiencia para adaptarnos a las demandas de los clientes. Los flujos dobles no implican duplicar el tamaño del sistema. Empresa con experiencia en productos, equipos de cuentas, servicio técnico y experiencia global
Edwards EUV system
EZENITH ofrece una cartera avanzada de sistemas que proporcionan soluciones totalmente integradas en el manejo de gases de escape y vacío para todas sus aplicaciones de procesos de semiconductores. Los sistemas EZENITH son los únicos que ofrecen lo que se indica a continuación:
Solo con una bomba y un dispositivo de eliminación de gases, aún no está listo para ejecutar su proceso. Tendrá que conectar el tubo de escape de la bomba, conectar los calentadores de la tubería cuando sea necesario, hacer funcionar las líneas de agua, purga y eléctrica y, luego, preparar todas las señales de control. También deberá tener en cuenta el doble cierre, la detección de fugas de gas y cómo desea realizar las revisiones de fugas después del mantenimiento de la herramienta. Todas estas cosas le costarán tiempo y dinero. Entendemos el problema, por lo que hemos desarrollado soluciones integradas y específicas para el proceso.
Nuestros sistemas integrados ya están prediseñados para la mayoría de los procesos de semiconductores. Los calentadores de la salida de gases están configurados a la temperatura correcta para minimizar los costos y maximizar el tiempo de funcionamiento. Colocamos puertos de verificación de fugas y válvulas de compuerta, cuando son necesarios. Todo el sistema se encuentra cerrado y, lo que es más importante, solo debe proporcionar uno de cada servicio necesario. Distribuimos los gases, el agua, la electricidad y las señales de control donde se necesitan y creamos un sistema listo para usar.
