Maximale Sub-Fab-Verfügbarkeit
In der heutigen schnelllebigen, vernetzten Welt verstehen wir die Notwendigkeit unserer Kunden, die Produktivität zu maximieren. Wir helfen dabei, indem wir sicherstellen, dass ihre Technologie als erste auf den Markt kommt, während wir uns weiterhin bemühen, die Risiko- und Umweltherausforderungen, die der Herstellungsprozess mit sich bringen kann, zu reduzieren.
Wir sind überzeugt, dass integrierte Lösungen für unsere Kunden am besten sind. Sie berücksichtigen alle Kundenanforderungen an Vakuum- und Abgasmanagement auf Grundlage unserer globalen Erfahrung. Im Mittelpunkt unserer Innovationstätigkeit stehen unsere integrierten Lösungen. Diese machen es uns möglich, unseren Kunden die Vorteile der Wiederholbarkeit von Produkten und Serviceleistungen zu bieten, was Produktivität, Sicherheit und Umweltverträglichkeit garantiert.
Das innovative Verfahren der extrem ultravioletten Lithographie, kurz EUVL oder EUV genannt, ist eine Lithografietechnologie der nächsten Generation, die führende Halbleiterchiphersteller bei der Herstellung fortschrittlichster Halbleiterkomponenten einsetzen wollen. Diese Technologie ist von historischer Bedeutung, da sie die kontinuierliche Weiterverfolgung des Mooreschen Gesetzes ermöglicht. Die unmittelbare Herausforderung für EUV ist die Werkzeugverfügbarkeit. Unsere voll integrierte Sub-Fab-Lösung wird der EUV-Lithographiefertigung erhebliche Vorteile bringen. Auch nach über 10 Jahren der EUV-Unterstützung auf Sub-Fab-Ebene sind wir mit unseren innovativen, führenden Technologielösungen und Systematisierungsfähigkeiten weiterhin bestrebt, in einer gemanagten sicheren Umgebung eine maximale Verfügbarkeit und Ausbeute des EUV-Verfahrens zu ermöglichen.
Wir verstehen die Herausforderungen voll und ganz
Nutzung unserer globalen Erfahrung zur Sicherung des Kundenerfolgs
Höhere Durchflüsse heißt nicht größere Werkzeuge
Recycling/Wiederverwendung
Die Fähigkeit und Erfahrung, sich an die Kundenanforderungen anzupassen. Eine Verdoppelung der Durchflüsse bedeutet keine Verdoppelung der Systemgröße; erfahrenes Produktunternehmen, Account-Teams, Service-Support und globales Know-how.
EZENITH bietet ein fortschrittliches Portfolio an Systemen, die voll integrierte Vakuum- und Abgasmanagementlösungen für alle Ihre Anwendungen in der Halbleiterindustrie bieten. EZENITH-Systeme sind einzigartig in ihrem Angebot:
Mit nur einer Pumpe und einer Abgasreinigungsvorrichtung können Sie Ihren Prozess noch nicht durchführen. Sie müssen den Pumpenauslass anschließen, die Leitungsheizungen an den erforderlichen Stellen verbinden, Wasser-, Spülungs- und Stromleitungen verlegen und dann noch alle Ihre Steuersignale vorbereiten. Außerdem müssen Sie über ein doppeltes Gehäuse, die Gaslecksuche sowie über die Art und Weise, wie Sie nach der Wartung Ihres Werkzeugs Leckprüfungen durchführen werden, nachdenken. All diese Dinge kosten Sie Konstruktionszeit und Geld. Wir verstehen dieses Problem und haben deshalb integrierte, prozessspezifische Lösungen entwickelt.
Unsere integrierten Systeme sind bereits für die meisten Halbleiterprozesse vorkonzipiert. Die Abgasheizungen sind bereits auf die richtige Temperatur eingestellt, um die Kosten zu minimieren und die Betriebszeit zu maximieren. Wir setzen Anschlüsse zur Leckprüfung und Schieberventile dort ein, wo sie benötigt werden. Das gesamte System ist geschlossen und, was am wichtigsten ist, Sie müssen nur jeweils eine Zuleitung der erforderlichen Betriebsmittel bereitstellen. Wir verteilen Gase, Wasser, Strom und Steuersignale dort, wo sie gebraucht werden und schaffen ein betriebsbereites System.
