Integrovaná řešení

Inovativní proces extrémní ultrafialové litografie, známý krátce jako EUVL nebo EUV, je novou generací litografické technologie, kterou přední výrobci polovodičových čipů plánují použít při výrobě nejpokročilejších polovodičových součástek. Tato technologie má historický význam, neboť umožňuje nekončící rozšiřování Mooreova zákona. Bezprostřední výzvou pro EUV je provozuschopnost nástrojů. Naše plně integrované dílčí řešení přinese významné výhody pro litografickou výrobu EUV. Díky více než 10 letům využívání EUV z hlediska podřízené výroby se naše inovativní přední technologická řešení a schopnosti systematizace i nadále snaží umožnit maximální provozuschopnost a výnos procesu EUV v rámci řízeného bezpečného prostředí.

Plně rozumíme přítomným výzvám

• Řízení rizik

Využíváme naše celosvětové zkušeností k zajištění úspěchu našich zákazníků.

• Úspora energie

Vyšší průtoky neznamenají větší nástroje.

Recyklace/opětovné použití

• Scaling

Schopnost a zkušenosti přizpůsobit se požadavkům zákazníka. Zdvojnásobený průtok neznamená zdvojnásobení velikosti produktové společnosti, obchodních týmů, servisní podpory ani globálních odborných znalostí

Systém EZENITH nabízí pokročilé portfolio systémů, které poskytují plně integrovaná řešení správy podtlaku a výfukových plynů pro všechny aplikace s procesy polovodičů. Systémy EZENITH nabízejí jedinečné možnosti:

• Podtlak při procesu & řízení výfukových plynů
• Úplná integrace součástí
• Podpora každé funkce pomocí výkonného integrovaného řídicího rozhraní
• Navrženo pro efektivní využití prostoru – úspora až 70 %
• Úplná vnitřní distribuce, regulace a sledování služeb snižuje zapojení veřejných služeb o více než 60 % a současně zajišťuje hladký a spolehlivý provoz

Pouze s vývěvou a zařízením na snižování emisí plynů ještě nejste připraveni na provoz svého procesu. Budete muset připojit výfuk vývěvy, potřebné ohřívače potrubí, přivést vodní, čisticí a elektrické vedení a poté připravit všechny řídicí signály. Budete také muset zvážit dvojí uzavření, detekci úniku plynu a způsob provádění kontrol těsností po údržbě nástroje. Všechny tyto úkony vás stojí čas a peníze. Tomuto problému rozumíme, proto jsme vyvinuli integrovaná řešení specifická pro jednotlivé procesy.

Naše integrované systémy jsou již předem navrženy pro většinu procesů polovodičů. Ohřívače výfukových plynů jsou nastaveny na správnou teplotu, aby se minimalizovaly náklady a maximalizovala provozuschopnost. Tam, kde je to nutné, jsme umístili porty pro kontrolu těsnosti a šoupátkové ventily. Celý systém je uzavřený, a co je nejdůležitější, budete muset dodat pouze jeden z požadovaných nástrojů. Distribuujeme plyny, vodu, elektřinu a řídicí signály tam, kde jsou potřeba, a vytváříme systém připravený k provozu. 

Regis (Reactive Gas Inject System) je chemický reaktivní systém, který využívá technologii vzdálené plazmy k prodloužení životnosti vývěvy.

Nejnovější generace systému Regis se vyznačuje jedinečnou konstrukcí reakční komory, která zajišťuje efektivní reakci procesních plynů před vstupem do čerpadla a prodlužuje životnost vývěvy na více než 300 dní.

Ve srovnání s předchozí generací systému Regis byly prostorové nároky sníženy o 26,5 %. Nový systém Regis spojený se suchoběžnými vývěvami pro náročné aplikace zajišťuje maximální provozuschopnost vývěvy a stabilitu procesu pro řadu procesů.

Funkce a výhody:

• Nízké provozní náklady:

Systém ReGIS prodlužuje životnost vývěvy na 300 dní nebo více

Optimalizovaný průtok NF3 pomocí studií FTIR pro minimalizaci CoO.

Účinnost reakce se zvýšila o 100 % díky nové konstrukci reakční komory.

• Maximalizace doby provozuschopnosti nástroje:

Nepřetržitý provoz online.

Zkrácení prostojů výrobní linky způsobovaný častými výměnami vývěv.

• Plně uzavřený systém s portem pro odsávání komory je součástí dodávky.

• Řízeno jednotkou PLC:

Funkce kontroly signálu nástroje ReGIS pro zapálení plazmy.

Rozšířené zabezpečení.

Kompletní monitorování systému.

• Umožňuje stabilitu procesu:

Žádná ztráta výkonu.

Žádné změny vodivosti.